三维存储器及其制备方法、存储系统.pdfVIP

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2023-05-19 发布于北京
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三维存储器及其制备方法、存储系统.pdf

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本申请提供了一种三维存储器及其制备方法、存储系统。制备方法包括：在衬底上形成包括多个台阶的叠层结构，每个台阶包括交替叠置的绝缘层和栅极牺牲层；形成覆盖台阶的侧壁的阻挡部，在叠层结构的堆叠方向上，阻挡部的上表面高于相应台阶的栅极牺牲层的上表面；形成第一牺牲层，以覆盖阻挡部和台阶的台面，台阶的台面为栅极牺牲层；以及去除第一牺牲层的一部分，以暴露阻挡部的第一侧面，第一侧面为阻挡部远离台阶的侧壁的至少部分表面。本申请形成第一牺牲层之前在台阶的连接处形成阻挡部，使得在形成较厚的第一牺牲层时，台阶连接处的坡

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114883332 A (43)申请公布日 2022.08.09 (21)申请号 202210235205.2 G11C 16/04 (2006.01) (22)申请日 2022.03.