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本发明提供了一种低钴正极活性材料、其制备方法、电化学装置和电子设备,所述低钴正极活性材料包括低钴正极活性材料内核和包覆在其表面的包覆层,低钴正极活性材料内核中包括钛元素和铝元素,包覆层中包括钛化合物和铝化合物;低钴正极活性材料的XRD谱图满足:(003)晶面衍射峰的位置为18.40°至18.60°,衍射峰的半高宽为0.140°至0.160°,晶粒尺寸为至(104)晶面衍射峰的位置为44.28°至44.32°,衍射峰的半高宽为0.150°至0.190°。本发明的低钴正极活性材料结晶度与流动性较佳,
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114759183 A
(43)申请公布日 2022.07.15
(21)申请号 202210602204.7 H01M 4/485 (2010.01)
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