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本发明涉及一种硬质芯片截面分析制样方法,包括步骤:去除硬质芯片的封装并取出晶圆;利用金刚石砂纸对所述晶圆进行研磨,待研磨至待观察位置完全显示出来后,进行抛光和冲洗;无需对晶圆镀导电层,直接将抛光和冲洗后的晶圆放置于SEM样品台上,以1KV~5KV的工作电压和10mm~12mm的工作距离对所述待观察位置进行观察。采用本发明的截面分析制样方法,保证了硬质芯片样品的平整光滑,简化了制样工艺,操作便捷,观察效果好,有利于对样品的后续分析,分析成本低。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114705706 A
(43)申请公布日 2022.07.05
(21)申请号 202210300518.1
(22)申请日 2022.03.24
(71)申请人 苏试宜特(深圳)检测技术有限公司
地
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