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本发明提供了一种用于氟化物多晶原料处理装置包括:炉膛和炉壁,炉膛内设置有坩埚,坩埚内放置氟化物多晶原料,坩埚开口处设置有排气结构,坩埚底部设置有进气结构用于气体进入坩埚内与氟化物多晶原料中,经过坩埚外面设置的加热器给坩埚加热反应将氟化物多晶体原料中的水与注入的气体反应从而减少氟化物多晶体原料的水含量少。本发明还提供了一种利用以上装置对氟化物多晶原料的处理方法,使用多次加温使使氟化物多晶原料与四氟化碳反应排出水。恒温结束后降到室温后取出作为氟化物单晶生长的多晶原料。通过对氟化物原料的处理,晶体生长
(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114622279 A (43)申请公布日 2022.06.14 (21)申请号 202210267311.9 (22)申请日 2022.03.18 (71)申请人 四川奇峰景行光学科技有限公司 地址
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