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本发明属于缓释材料技术领域,具体涉及一种芸苔素内酯纳米缓释制剂及其制备方法与应用。本发明采用芸苔素内酯与改性纳米二氧化硅为原料,分散在有机硅表面活性剂中,使芸苔素内酯均匀负载在改性纳米二氧化硅的孔洞内和表面上,得到芸苔素内酯纳米缓释制剂,负载率高;制备所得到的芸苔素内酯纳米缓释制剂具有优异的抗盐胁迫性、缓释性,大大提高了芸苔素内酯的利用率,降低成本,适合大规模生产。
(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116035008 A (43)申请公布日 2023.05.02 (21)申请号 202211348055.2 C05F 11/10 (2006.01)
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