用于半导体加工线的排气系统.pdfVIP

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2023-05-10 发布于四川
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用于半导体加工线的排气系统.pdf

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本申请属于半导体加工技术领域，具体涉及一种用于半导体加工线的排气系统，半导体加工线包括多台半导体加工设备，每台半导体加工设备内设置有加工腔室，排气系统用于对多台半导体加工设备的多个加工腔室进行排气，排气系统包括：排气站，排气站包括靠近半导体加工线设置的排气泵；滑动轨道，滑动轨道设置于半导体加工线的顶部，且滑动轨道的滑动行程覆盖多个加工腔室；对接管道，对接管道可滑动地设置于滑动轨道上并与排气泵连通，对接管道通过在滑动轨道上移动的方式选择性地与多个加工腔室中的一个对接。根据本申请的用于半导体加工线的

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114551274 A (43)申请公布日 2022.05.27 (21)申请号 202011355983.2 (22)申请日 2020.11.26 (71)申请人中国科学院微电子研究所地址 10