一种耐刻蚀的正性光刻胶.pdfVIP

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2023-05-06 发布于北京
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一种耐刻蚀的正性光刻胶.pdf

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本申请属于光刻胶技术领域，具体涉及一种耐刻蚀的正性光刻胶，包括如下重量份的各组分：酚醛树脂100份、PAC10‑50份、固化剂5‑30份、溶剂450‑550份；所述正性光刻胶还包括100‑1000ppm的催化剂。本申请的耐刻蚀的正性光刻胶，通过添加固化剂和催化剂保证光刻胶膜的顺利固化，并提高酚醛树脂的交联密度，提高光刻胶膜的致密性，提高光刻胶膜的抗渗透能力，避免酸分子渗透至光刻胶薄膜与基材之间，从而影响光刻胶薄膜与基材之间的粘结力，导致光刻胶容易开裂、脱落等。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114326304 A (43)申请公布日 2022.04.12 (21)申请号 202111644603.1 (22)申请日 2021.12.30 (71)申请人苏州瑞红电子化学品有限公司