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本实用新型涉及基板清洗用具技术领域,尤其涉及一种陶瓷基板清洗用放置治具,其特征在于,包括治具本体,所述治具本体上表面开设有若干基板放置位,所述基板放置位的周边设有定位挡框,所述基板放置位上开设有若干导流槽,所述导流槽的端部均向所述治具本体外部相连通。在治具本体上开设的若干基板放置位和定位挡框,能够同时对多个基板进行固定,防止其左右移动或与其他基板聚集;基板放置位底部开设的导流槽,能够使IPA(异丙醇)等洗涤液体从基板底部流动,进而确保玻璃与基板之间冲洗掉的石蜡全部带出,使清洗效果更佳。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 214123849 U
(45)授权公告日 2021.09.03
(21)申请号 202120347235.3
(22)申请日 2021.02.07
(73)专利权人 浙江美迪凯光学半导体有限公司
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