一种防止硅片过刻的刻蚀槽.pdfVIP

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2023-03-10 发布于四川
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一种防止硅片过刻的刻蚀槽.pdf

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本实用新型提供一种防止硅片过刻的刻蚀槽。所述防止硅片过刻的刻蚀槽，包括：刻蚀槽，所述刻蚀槽内壁的两侧之间固定连接有密封板，所述刻蚀槽内壁的两侧均固定连接有滑槽，两个所述滑槽的正面均设置有刻度，两个所述滑槽相对的一侧之间滑动连接有栅格板，所述栅格板的顶部固定连接有两个挡板，两个所述挡板相对的一侧之间设置有传送带，所述传送带为筛网结构，所述栅格板的底部固定连接有连接杆。本实用新型提供的防止硅片过刻的刻蚀槽，能够使得不同规格的硅片处于合适的液面深度，防止了刻蚀不彻底的情况，也防止了过刻的情况，而且能够

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 213388902 U (45)授权公告日 2021.06.08 (21)申请号 202022508055.7 (22)申请日 2020.11.03 (73)专利权人苏州煊能自动化设备有限公司