亚纳米级高精度写场拼接光刻机系统.pdfVIP

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2023-02-24 发布于北京
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亚纳米级高精度写场拼接光刻机系统.pdf

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本实用新型公开了一种亚纳米级高精度写场拼接光刻机系统，包括机体里的台面，台面上方设有电子显微镜、至少一台纳米触点传感器及晶圆移动工作台；电子显微镜上设有电子束镜筒；晶圆工作台上设有用于拖动其前、后和/或左、右和/或上、下移动以及角度变化的数控驱动装置。通过对曝光前后，晶园移动前后，写场的位置坐标比较，计算出拼接的偏差，以负反馈控制方式进行晶圆的高精度光刻拼接，克服了现有非原位、远离写场、盲人式开环光刻拼接技术受晶园工作台机械运动精度、电子束长时间漂移的影响而拼接精度差的缺陷，突破了现有技术严重依

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 212873186 U (45)授权公告日 2021.04.02 (21)申请号 202021078739.1 (22)申请日 2020.06.11 (73)专利权人百及纳米科技（上海）有限公司