涂敷、显影装置.pdfVIP

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2023-02-20 发布于四川
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本实用新型提供一种能够以高生产率进行处理且占地面积较小的涂敷、显影装置，其具备：处理模块，其设置有包括曝光前处理组件的处理组件；和中继模块，其设置有曝光后处理组件和第1送入送出组件，在各层设置有所述处理组件，在设置有所述曝光前处理组件的层的所述中继模块侧端，设置有在将基板在两模块之间交接之际载置该基板的交接部，所述中继模块在沿着所述宽度方向与所述处理模块的所述交接部相邻的区域设置有第2送入送出组件，在中继侧输送区域设置有所述第1送入送出组件，在所述深度方向上，在将所述第2送入送出组件夹在中间地与

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 212694244 U (45)授权公告日 2021.03.12 (21)申请号 202022137639.8 H01L 21/677 (2006.01) (22)申请日