GB/T 40109-2021表面化学分析　二次离子质谱　硅中硼深度剖析方法.pdf

ICS71.040.40 CCSG04 中华人 民共和 国国家标准 / — / : GBT40109 2021ISO175602014 表面化学分析 二次离子质谱 硅中硼深度剖析方法 — — Surfacechemicalanalsis Secondar-ionmasssectrometr y y p y Methodfordeth rofilin ofboroninsilicon p p g ( : , ) ISO175602014IDT 2021-05-21发布 2021-12-01实施 国家市场监督管理总局 发 布 国家标准化管理委员会 / — / : GBT40109 2021ISO175602014 目 次 前言 ………………………………………………………………………………………………………… Ⅲ 引言 ………………………………………………………………………………………………………… Ⅳ 1 范围 ……………………………………………………………………………………………………… 1 2 规范性引用文件 ………………………………………………………………………………………… 1 3 符号和缩略语 …………………………………………………………………………………………… 1 4 原理 ……………………………………………………………………………………………………… 2 5 参考物质 ………………………………………………………………………………………………… 2 5.1 用于校准相对灵敏度因子的参考物质 …………………………………………………………… 2 5.2 用于校准深度的参考物质 ………………………………………………………………………… 2 6 仪器 ……………………………………………………………………………………………………… 2 6.1 二次离子质谱仪 …………………………………………………………………………………… 2 6.2 触针式轮廓仪 ……………………………………………………………………………………… 2 6.3 光学干涉仪 ………………………………………………………………………………………… 2 7 样品 ……………………………………………………………………………………………………… 2 8 步骤 ……………………………………………………………………………………………………… 2 8.1 二次离子质谱仪的调整 …………………………………………………………………………… 2 8.2 优化二次离子质谱仪的设定 ……………………………………………………………………… 3 8.3 进样 ………………………………………………………………………………………………… 3 8.4 检测离子 …………………………………………………