MPCVD技术的发展历史及现状毕业论文正文.pdfVIP

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2021-08-19 发布于河北
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第一章前言化学气相沉积法（CVD=Chemical Vapor Deposition ）合成金刚石 [1,2] 是指在低压条件（≤ 100kPa）下，采用一定方法激活含碳气体，使其中的碳原子在基底（种晶）上过饱和沉积、生长成金刚石。碳源气体被激活和碳原子的沉积过程伴随着一系列化学反应，因此这种合成金刚石的方法被称为化学气相沉积法。要实现金刚石的化学气相沉积有几个必要条件： 1）有碳源气体和