三维灯光渲染技术全套配套课件教学资源包04第四章.docxVIP

教案用纸 课程章节名称 第四章 通道 教学目的、要求 ●掌握全局照明 ●掌握渲染准备工作 ●照明的设置 ●掌握场景模型UV设置 ●mental ray 灯光照明 ●景深 重点 难点 1. 全局光照的制作 2. 掌握烘焙贴图的使用技巧 3. 掌握渲染方法 教学环节时间分配 3课时 教学手段、教学方法和实施步骤 多媒体 授课内容: 全局照明 （1）创建一个简单的场景，用来渲染测试焦散的效果，为场景中的对象分别赋予材质lambert 材质。 （2）创建一盏聚光灯来照亮场景中的小方块，调节好灯光的角度及视图的渲染角度后。在渲染设置窗口中将当前渲染器指定为mental ray 渲染器，设置好渲染尺寸。 （3）在渲染设置中间接照明选项中的全局照明勾选全局照明。 （4）选择灯光，按Ctrl+a 打开聚光灯属性面板， 展开mentrl ray 选项下的焦散和全局照明，勾选发射光子选项。设置不同的光子密度，可以得到不同的全局光照效果。全局照明光子的数量可以控制光子渲染的细腻程度。 渲染准备工作 渲染设置步骤 （1）设置好场景渲染尺寸问HD720，关闭默认灯光。 （2）当测试参数调整完毕时，执行[ 创建 摄像机 自由摄像机]，调整到合适位置，并打开[ 视图 摄像机设置 分辨率门]，得到合适的摄像机角度。 照明设置 （1）执行菜单命令[ 创建 灯光 区域光]，在通道的入口处创建一盏区域光作为主灯光，设置其位置、方向和大小。 （2）选择区域光，按Ctrl+a 键打开属性编辑器， 设置强度为800，衰退速率为二次方，勾选使用光线跟踪阴影，设置光线数为15。 （3）再次选中区域灯光，maya 将刷新灯光属性， 在mental ray 选项中的焦散和全局照明选项中，勾选发射光子，光子密度设置为2000，全局照明光子设置为100000。 （4）开启mental ray 中区域光选项，勾选使用灯光形状，高采样数为64，高采样限制为12，可以得到较为细腻的光线。 （5）添加辅助灯光，执行菜单命令[ 创建 灯光 区域光]，在场景通道中间创建一排点光源作为辅助光。 （6）选择点光源，按Ctrl+a 键打开属性编辑器， 设置强度为0.1，选择所有点光源打开窗口选项下常规编辑器下菜单的属性总表。 （7）选择强度，可以统一修改所有点光源强度参数。 场景模型UV设置 （1） 模型分析，本章的模型并不复杂，建模采用目前常用的mesh 建模方式，多边形建模的优点在于可调节性很强，对于后期的贴图有很好的控制性。 （2）由于通道比较长，中间需要断开来拆分UV， 才能得到较大面的贴图，远处的灯箱需要使用自发光技术，同时场景只用一个材质来解决贴图。 如何进行UV 设置： （3）选择标签模型，并确认此时maya 模块为建模模块。 （4）选择通道顶面4 个面，执行maya 菜单栏中的[ 编辑UV] 选项中的[ 平面映射] 后面的小方块，在弹出的[ 平面UV 选项] 中选择[Y 轴] 选项，点击投影按钮。 （5）场景中的标签模型会得到一个平面的UV 投射坐标，如图所示。 （6）执行maya 主菜单中[ 窗口] 选项中的UV 纹理编辑器，在弹出的[UV 纹理编辑器] 中得到一张标签模型的UV 图。 （7）模型的其他面也通过同样的方法映射UV，并调整UV 的大小。 （8）选择lambert 材质，执行Ctrl+a 展开材质属性面板，在点击[ 颜色] 标签，在弹出的[ 创建渲染节点] 中点击[ 文件] 选项。 （9） 在maya 操作视图中， 按键盘的数字键6，得到贴图预览模式，观察到标签的UV 有明显拉伸，如图：打开Hypershade），创建Lambet 材质球，指定给所有模型，双击颜色标签，在弹出对话框中选中文件节点，采用UV 贴图检查UV 拆分正确与否。 （10）烘焙贴图，在Hypershaer 中创建表面材质球（surfaceShader）在mental ray 的选项中，点击纹理， 找到mib_amb_occlusion, 鼠标中键按住，拖拽至表面材质球（surfaceShader） 上，Ctrl+a 打开mib_amb_ occlusion 属性，设置Samples 为256，Spread 为5， Max Distance 设置为2。将表面材质球赋予给所有模型。 （11） 选择渲染模块， 点击maya 菜单栏中的[ 照明/ 着色下的批烘焙（mental ray）]，点击后面的，会弹出mental ray 烘焙选项的设置面板。 （12）纹理烘焙：选择要烘焙的对象，即对选择的物体进行烘焙，勾选使用渲染器设置：Mental ray 渲染器选用；[ 质量] 标签中需要修改，其他无需修改， 修改如下：[ 质量预设] ：[ 产品级] ；[ 光线跟踪/