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ICS29.045 H 82 中华人 民共和 国国家标准 / — GBT14139 2019 代替 / — GBT14139 2009 硅 外 延 片 Siliconeitaxialwafers p 2019-06-04发布 2020-05-01实施 国家市场监督管理总局 发 布 中国国家标准化管理委员会 / — GBT14139 2019 前 言 本标准按照 / — 给出的规则起草。 GBT1.1 2009 / — 《 》。 / — , 本标准代替GBT14139 2009硅外延片 本标准与GBT14139 2009相比 除编辑性修改外 主要技术变化如下: + ——— , “ (/ ) 修改了适用范围 将 本标准适用于在 型硅抛光片衬底上生长的 型外延层 和在 N n N N p + (/ ) 。 型硅抛光片衬底上生长的 型外延层 的同质硅外延片 产品主要用于制作硅半导体 P PP 。 。” “ 器件 其他类型的硅外延片可参照适用 改为 本标准适用于在直径不大于 的 型 150mm N ”( , )。 和 型硅抛光片衬底上生长的硅外延片 见第 章 年版的第 章 P 1 2009 1
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