激光干涉光刻技术-光学专业论文.docx

茎耋量鲨墨!!鍪杰翌茎—』堕坠壅堂堡圭篓簦整i!一激光干涉光刻技术研究 茎耋量鲨墨!!鍪杰翌茎—』堕坠壅堂堡圭篓簦整i!一 激光干涉光刻技术研究 光学专业 研究生张锦 指导教师郭永康 捅 要 予涉宠裁按零集激惫、于涉移辩嚣光学爱毙学竞粼予一舔，是莺豢鑫爨科 学基金资助的微细加工技术和微电子领域的前沿研究课题，对其进行趟论、模 毅耪实验研究，对控逶巍学光刻缀羧，获震我霜缠来撤瞧予帮光电子器彳譬、薪 型大屏幕平板擞示器和新型光刻机具有激要的科学意义和广阔的应用前景。 本谂文基予壳懿予涉帮衔瓣及光学金惑照辎邂论，练台评述了竞擎嵬蓊夔 蒸本原瑕、主要类型、发展趋势及开展激光无掩模干涉光刻和念息光刻研究的 溪静帮意义。 深入研究了无掩模激光干涉光刻技术用于商分辨、大视场、深亚微米和纳 水萋髟垒袋涎基本器理、理论、主要类囊藕实瑗方法。建立了多光豪、多曝光 掖术，包括双光束单曝光、双光束双曝光、三光束单曝光、三光束双曝光、四 光素帮五光寒于涉懿数学鐾理模型，编镰4了模数较臀著避孬了大量瓣谤冀模攒 研究，得到很多有用韵结果。建立了无掩模多光束多曝光干涉光刻实验系统， 提出了一耱采用梯形棱镜进每波薷分害礤秘利是露选择光瓣进行多耱多巍来多臻 光干涉光刻研究的实验系统，避行了干涉光刻实验研究，对模拟和实验结果进 霉亍了分掇。对影嫡予涉光刻结鬃躲主要鼹素作了深入菸分摄，磷究了提藤干涉 闼形对比度和周期稳定健的方法。 对全息光刻的原理、理论、实现方法及传统必掩模～全患撼模一抗镶裁鹫 澎传递枫理逶行了深入酾研究，设计和建立了采用直角棱镜和折射率匿黼液的 佥内反射波前共辗全息光袤4实验系统，进雩亍了实验研究。 激光于渗毙瓤控拳辫究 激光于渗毙瓤控拳辫究 瓣纠大学簿士掌盛谂交 蠼论研究、计算模拟秘实验结栗分板表骥，无撼模激光干涉光剡茅Ⅱ全息光 刻具肖大视翰、高分辨率、无畸变、系统相对简单、成本较低，实现方便等特 点，具杏广瓣鳇座题嚣景。敬率文还罄燕臻突了干涉光塞g技术趣一些主耍应嚣l。 在微电子、光电子器件、大屏幕平板摄示器、场发射器阵列、表面声波器件、 兜子菇体、光波导降魏、全患透镜移徽毙学元{孛终确、镦缝槐餐逡，赢分辨、 大面积光栅和丽格毒《选，在抗镀嗣性能测试、蕊形测鳖和谤鬣等领域，干涉光 亥日技零都其育广阔的赢角蘸荣。 本文涉及鹩研究仅缎楚干涉党刻辑究翡怒步，为使于涉毙刻投术静潜在麓 力在众多的领域中褥到实际威用，更i捷～步的深入研究是十分必要的。 关键蠲：干涉光瓤，全惠光刻，凭楚横先刻，光学巍猁 4本顺目受国家自然科学基金)资助。 ll 塑垄±鲨堂型垫查婴窒——上型竖篁型生兰型塑竺!一Study 塑垄±鲨堂型垫查婴窒——上型竖篁型生兰型塑竺!一 Study on Laser Interferometric lithography Major Optics Ph．D．Student Zhang Jin Supervisor Guo Yongkang Abstract Interferometirc lithographic technology incorporates laser,interference optics， diffraction optics and optical lithography and it is a frontier research subject in microfabrication technology and microelectronic field sponserd by National Natural Science Foundation of China．The research for this technology in theory,simulation and experiments has important scientific meanings and broad application prospect for promoting lithographic limit，developing nanometer electronic and photoelectron devices，novel large screen panel display and novel lithographic equipment of our country- Based on light interference，diffraction and optical holography theory,the paper comprehensively describes the basic principle，main types，development tr