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仍然存在着容灾设计不充分、高可用性不够完善、SATA 归档未全自动化等不足。而半 导体工艺已经开始了向着 32nm、22nm 节点迈进的步伐,存储领域发展也表现出多种新 技结合发展的趋势,未来光掩膜存储管理领域将面临更多的挑战和更大的改善空间。
关键词 光掩膜,非结构化数据,归档,迁移,备份
THE DESIGN AND IMPLEMENTATION OF DATA STORAGE MANAGEMENT SYSTEM IN PHOTOMASK MANUFACTURE
ABSTRACT
As semiconductor process node advances,the photomask manufacture which plays an important role in the semiconductor production process is also facing more and more challenges. In particular, into the 90nm era, photomask data conversion computing and related file size has emerged scale explosive growth, so the performance of the storage system has been made ever-increasing demands. This paper is to design and realize one massive
unstructured data storage management system with high-performance, low cost, high
automation and high availability,based on mainstream technology.
In the current enterprise-level storage area, the main storage medium are hard disks, magnetic tapes and discs, respectively, which corresponds to the storage devices are disk arrays, tape drives, tape libraries and discs library. The network storage technologies are DAS, SAN and NAS.
Reference to the technical characteristics of a wide range of storage, the overall photomask data storage management system is designed with target to achieve the 4 performance in the paper. Firstly, it analyses the original photomask SAN storage architecture and provides innovative high-performance 10Gbps NAS hierarchical storage architecture design. Secondly, with use of hierarchical storage management (HSM), low-cost hierarchical storage architecture is designed. Thirdly, combining with information lifecycle management (ILM), the photomask data storage management overall functional design is proposed, which the realize data management and data conversion automaticly. Finally, management system uses a high-availability clustering (HAC) server clusters architecture to achieve high availability.
Speciality of the system is the function about photomask data a
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