课程设计参考报告——提高光学光刻分辨率的方法研究（精）.docVIP

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2018-09-07 发布于湖北
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课程设计参考报告——提高光学光刻分辨率的方法研究（精）

微电子工艺课程设计提供光学光刻分辨率的方法研究目录 TOC \o 1-4 \h \z \u HYPERLINK \l _Toc327539637 摘要 PAGEREF _Toc327539637 \h 5 HYPERLINK \l _Toc327539638 关键词 PAGEREF _Toc327539638 \h 5 HYPERLINK \l _Toc327539639 引言 PAGEREF _Toc327539639 \h 5 HYPERLINK \l _Toc327539640 正文 PAGEREF _Toc327539640 \h 6 HYPERLINK \l _Toc327539641 一、提高分辨率的方法 PAGEREF _Toc327539641 \h 6 HYPERLINK \l _Toc327539642 1. 影响图形光刻分辨率的主要因素 PAGEREF _Toc327539642 \h 6 HYPERLINK \l _Toc327539643 1.1掩膜（Mask） PAGEREF _Toc327539643 \h 6 HYPERLINK \l _Toc327539644 1.2 照明系统（Illumination system） PAGEREF _Toc327539644 \h 7 HYPERLINK \l _Toc327539645 1.3 投影（Projection） PAGEREF _Toc327539645 \h 7 HYPERLINK \l _Toc327539646 1.4发射和过滤特性 PAGEREF _Toc327539646 \h 8 HYPERLINK \l _Toc327539647 1.5成像(Image) PAGEREF _Toc327539647 \h 9 HYPERLINK \l _Toc327539648 1.6曝光（Expose） PAGEREF _Toc327539648 \h 10 HYPERLINK \l _Toc327539649 1.7烘烤（Bake） PAGEREF _Toc327539649 \h 11 HYPERLINK \l _Toc327539650 1.8显影（Develop） PAGEREF _Toc327539650 \h 11 HYPERLINK \l _Toc327539651 1.9一些效应的影响 PAGEREF _Toc327539651 \h 12 HYPERLINK \l _Toc327539652 2. 提高分辨率的措施 PAGEREF _Toc327539652 \h 14 HYPERLINK \l _Toc327539653 2.1掩膜 PAGEREF _Toc327539653 \h 14 HYPERLINK \l _Toc327539654 2.2照明系统 PAGEREF _Toc327539654 \h 15 HYPERLINK \l _Toc327539655 2.3投影（Projection） PAGEREF _Toc327539655 \h 16 HYPERLINK \l _Toc327539656 2.4发射和过滤特性 PAGEREF _Toc327539656 \h 17 HYPERLINK \l _Toc327539657 2.5成像（Image） PAGEREF _Toc327539657 \h 18 HYPERLINK \l _Toc327539658 2.6曝光（Expose） PAGEREF _Toc327539658 \h 18 HYPERLINK \l _Toc327539659 2.7烘烤（Bake） PAGEREF _Toc327539659 \h 19 HYPERLINK \l _Toc327539660 2.8显影（Develop） PAGEREF _Toc327539660 \h 20 HYPERLINK \l _Toc327539661 2.9一些常见且有效的技术 PAGEREF _Toc327539661 \h 22 HYPERLINK \l _Toc327539662 2.10采用先进的光刻技术 PAGEREF _Toc327539662 \h 28 HYPERLINK \l _Toc327539663 二、一个优化的工艺组合方案的各参数的确定 PAGEREF _Toc327539663 \h 31 HYPERLINK \l _Toc327539664 1 掩膜版和照明窗口的设计 PAGEREF _Toc327539664 \h 31 HYPERLINK