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薄膜的制备工艺教材课程.pptx
薄膜的制备工艺;主要内容;1.什么是薄膜;;;;;SAPPHIRE（蓝宝石） Al2O3 ;1.2薄膜的分类;表面能级很大 薄膜和基片的粘附性 薄膜中的内应力 异常结构和非理想化学计量比特性 量子尺寸效应和界面隧道穿透 容易实现多层膜效应;2.薄膜的制备方法;真空蒸发;一般，对于制备薄膜的要求，可以归纳如下： ①膜厚均匀； ②膜的成分均匀； ③沉积速率高，生产能力高； ④重复性好； ⑤具有高的材料纯度高，保证化合物的配比； ⑥具有较好的附着力（与基体），较小的内应力。;2.1物理气相沉积(physical vapor deposition ）;2.2化学气相沉积 (chemical vapor deposition );化学气相沉积，包括低压化学气相沉积（low pressure CVD,LPCVD）、离子增强型气相沉积（plasma-enhanced CVD,PECVD）常压化学气相沉积（atmosphere pressure CVD,APCVD）、金属有机物气相沉积（MOCVD）和微波电子回旋共振化学气相沉积(Microwave Electron cyclotron resonance chemical vapor deposition, MW-ECR-CVD）等。 只要是气相沉积，其基本过程都包括三个步骤；提供气相镀料；镀料向所镀制的工件（或基片）输送；镀料沉积在基片上构成膜层。 ;2.2.1金属有机化学气相沉积MOCVD;;MOCVD法的特点 ;;2.3溶胶凝胶法;;2.3.1Sol-Gel制薄膜的特点;2.3.2溶胶－凝胶方法制备薄膜工艺;前驱物溶液;2.3.4不同Sol-Gel工艺方法的对比 ;2.3.5Sol－Gel方法制备薄膜的步骤： ;;;;;;;重复;2.4电沉积(Electrodeposition）;;;;;电沉积的特点;;
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