2019版高考化学高分培养计划一轮全国创新版高分讲义：第44讲+卤代烃+Word版含答案.docxVIP

第44讲　卤代烃1．组成与结构(1)卤代烃是烃分子里的氢原子被卤素原子取代后生成的化合物。饱和一元卤代烃的通式为CnH2n＋1X。(2)官能团是—X(F、Cl、Br、I)。2．物理性质(1)通常情况下，除CH3Cl、CH3CH2Cl、CH2===CHCl等少数为气体外，其余为液体或固体。(2)沸点①比同碳原子数的烷烃沸点高；②互为同系物的卤代烃，沸点随分子内碳原子数的增加而升高。(3)溶解性：水中难溶，有机溶剂中易溶。(4)密度：一氟代烃、一氯代烃密度比水小，其余比水大。3．化学性质(1)水解反应①反应条件：氢氧化钠水溶液，加热。②C2H5Br在碱性条件下水解的反应式为C2H5Br＋NaOHC2H5OH＋NaBr。③用R—X表示卤代烃，碱性条件下水解方程式为R—X＋NaOHR—OH＋NaX。(2)消去反应①概念有机化合物在一定条件下，从一个分子中脱去一个或几个小分子(如H2O、HBr等)，而生成含不饱和键(如碳碳双键或碳碳三键)化合物的反应。②反应条件：氢氧化钠乙醇溶液，加热。③溴乙烷发生消去反应的化学方程式为C2H5Br＋NaOHCH2===CH2↑＋NaBr＋H2O。4．卤代烃的获取方法(1)取代反应C2H5OH与HBr：C2H5OH＋HBrC2H5Br＋H2O。(2)不饱和烃与卤素单质、卤化氢等的加成反应CH3—CH===CH2＋Br2―→CH3CHBrCH2Br；CH≡CH＋HClCH2===CHCl。5．卤代烃对环境的影响含氯、氟的卤代烷是造成臭氧层空洞的主要原因。1．正误判断，正确的画“√”，错误的画“×”。(1)氟利昂(卤代烃)可用作制冷剂，释放到空气中容易导致臭氧层空洞。(　　)(2)CH3CH2Cl的沸点比CH3CH3的沸点高。(　　)(3)所有的卤代烃都能发生水解反应和消去反应。(　　)(4)用AgNO3溶液和稀硝酸便可检验卤代烃中的氯、溴、碘元素。(　　)(5)溴乙烷与NaOH的醇溶液反应，可生成乙醇。(　　)(6)C2H5Br属于电解质，在碱的水溶液中加热可生成C2H5OH。(　　)答案　(1)√　(2)√　(3)×　(4)×　(5)×　(6)×2．下列能发生消去反应的是(　　)A．溴乙烷和氢氧化钠溶液混合共热B．一氯甲烷和苛性钠的乙醇溶液混合共热C．氯苯与氢氧化钠溶液混合共热D．1-溴丁烷与氢氧化钾的乙醇溶液混合共热答案　D解析　溴乙烷的消去反应在氢氧化钠的醇溶液中发生，在水溶液中发生水解反应，A错误；一氯甲烷只含有一个碳原子，不能发生消去反应，B错误；氯苯不能发生消去反应，C错误；1-溴丁烷与氢氧化钾的乙醇溶液混合共热可发生消去反应生成1-丁烯，D正确。考点　卤代烃的性质及卤代烃中卤素原子的检验典例　(高考经典题)立方烷()具有高度对称性、高致密性、高张力能及高稳定性等特点，因此合成立方烷及其衍生物成为化学界关注的热点。下面是立方烷衍生物I的一种合成路线：回答下列问题：(1)C的结构简式为________，E的结构简式为________。(2)③的反应类型为________，⑤的反应类型为________。(3)化合物A可由环戊烷经三步反应合成：反应1的试剂与条件为________；反应2的化学方程式为__________________；反应3可用的试剂为________。(4)在I的合成路线中，互为同分异构体的化合物是________(填化合物代号)。(5)I与碱石灰共热可转化为立方烷。立方烷的核磁共振氢谱中有________个峰。(6)立方烷经硝化可得到六硝基立方烷，其可能的结构有________种。解析　(1)C为B的消去产物，所以C的结构简式为；E为D与Br2发生加成反应的产物，所以E为。(2)根据C与D的结构简式判断反应③为取代反应；根据E与F的结构简式判断反应⑤为消去反应。(3)环戊烷在光照条件下与氯气反应得一氯环戊烷，一氯环戊烷在NaOH水溶液、加热的条件下水解，得到环戊醇，然后通过Cu作催化剂催化氧化得到化合物A。(5)立方烷的8个氢原子所处的化学环境相同，所以立方烷的核磁共振氢谱中只有1个峰。(6)立方烷的六硝基取代物与二硝基取代物的同分异构体数目相等，二硝基取代物有3种，则六硝基取代物也是3种。答案　(1)　(2)取代反应　消去反应　(3)Cl2/光照　O2/Cu(其他合理答案也可)　(4)G和H　(5)1　(6)3名师精讲(1)卤代烃水解反应的规律①卤代烃在NaOH的水溶液中一般能发生水解反应。②多元卤代烃水解可生成多元醇，如BrCH2CH2Br＋2NaOHHOCH2—CH2OH＋2NaBr。③卤代烃水解消耗NaOH的量n(卤素原子)∶n(NaOH)＝1∶1。(2)卤代烃消去反应的规律①两类不能发生消去反应的卤代烃a．与卤素原子相连的碳原子没有邻位碳原子，如CH3Cl。1．下