纳米材料导论 纳米粒子制备方法精选.pptVIP

2．4．1 激光诱导气相化学反应法 2．4．2 等离子体加强气相化学反应法 2. 4．3其他综合方法 1.γ射线辐照法 2.电子辐射法 2．4 制备纳米粒子的综合方法 (1)由于反应器壁是冷的，因此无潜在的污染； (2)原料气体分子直接或间接吸收激光光子能量后迅速进行反应； (3)反应具有选择性； (4)反应区条件可以精确地被控制； (5)激光能量高度集中,反应区与周围环境之间温度梯度大，有利于成核粒子快速凝结。 激光法与普通电阻炉加热法制备纳米粒子具有本质区别： 2．4．1 激光诱导气相化学反应法 （LICVD:Laser Induced Chemical Vapor Deposition） 目前，LICVD法已制备出多种单质、无机化合物和复合材料超细微粉末．LICVD法制备超细微粉已进入规模生产阶段，美国的MIT(麻省理工学院)于1986年己建成年产几十吨的装置． * 1．激光诱导气相化学反应法合成纳米粒子的原理 利用大功率激光器的激光束照射于反应气体，反应气体通过对入射激光光子的强吸收，气体分子或原子在瞬间得到加热、活化，在极短的时间内反应气体分子或原子获得化学反应所需要的温度后，迅速完成反应、成核、凝聚、生长等过程，从而制得相应物质的纳米粒子。 例如用连续输出的CO2激光辐照硅烷气体分子(SiH4)时，硅烷分子很容易热解: * 激光制备纳米粒子装置一般有两种类型：正交装置和平行装置．其中正交装置使用方便，易于控制，工程实用价值大． * 激光加热速率为106-108 ℃／S 加热到反应最高温度的时间小于10-4S 被加热的反应气流将在反应区域内形成稳定分布的火焰，火焰中心处的温度一般远高于相应化学反应所需要的温度，因此反应在10-3s内即可完成。 生成的核粒子在载气流的吹送下迅速脱离反应区，经短暂的生长过程到达收集室。 * 激光法合成纳米粒子的关键性问题 问题： 入射激光能否引发化学反应 解决方法： 激光光源具有单色性和高功率强度，如果能使入射激光光子频率与反应气体分子的吸收频率相一致，则反应气体分子可以在极短的时间内吸收足够的能量，从而迅速达到相应化学反应所需要的阈值温度，引发反应体系化学反应发生。 * 如SiH4、C2H4对C02激光光子都具有较强的吸收，相应吸收系数是气氛压力的函数。 对某些有机硅化合物和羰基铁一类的物质，它们对C02激光无明显的吸收。 解决方法： A 加入相应的光敏剂 在这种情形下，当入射激光照射在体系中时，首先是光敏剂中的分子或原子吸收激光光子能量，再通过碰撞将激光光子能量转移给反应气体分子使反应气体分子被活化、加热，从而实现相应的化学反应。 B 选择大功率激光器作为激光热源 如百瓦级C02连续激光器或各种脉冲激光器等。这类激光器的光束经透镜聚焦后，功率密度可以达到103—104W／cm2，完全能够满足激光诱导气相化学反应合成各类纳米粒子的要求。 为了保证化学反应所需要的能量，需要选择对入射激光具有强吸收的反应气体 * 为了保证反应生成的核粒子快速冷凝，获得超细的粒子，需要采用冷壁反应室 种类： 水冷式反应器壁，透明辐射式反应器壁。 采用冷壁反应室的原因: 有利于在反应室中构成大的温度梯度分布，加速生成核粒子的冷凝，抑制其过分生长。 * 2．激光诱导气相化学反应法合成纳米粒子的过程 首先，要根据反应需要调节激光器的输出功率、调整激光束半径以及经过聚焦后的光斑尺寸，并预先调整好激光束光斑在反应区域中的最佳位置。(仪器的调整) 其次，要作好反应室净化处理，即进行抽真空准备，同时充人高纯惰性保护气体。这样可以保证反应能在清洁的环境中进行。（气体的处理） 激光法合成纳米粒子的主要过程包括： 原料处理、原料蒸发、反应气配制、成核与生长、捕集等过程。 * 方法：通常在反应前，采用变色硅胶或各类分子筛(molecular sieve)来清除各类气体中的水分，利用高效气体脱氧剂除去各路气体中的微量氧。对于各类惰性气体(如酸性或碱性气体)，要选择相应的惰性脱水剂。 如NH3属于碱性气体，应考虑使用碱性脱水剂除去其中的水分，否则纯化过程中会引发某些化学反应，大大降低NH3原料的利用率。经过纯化处理的气体进行化学反应时，可以避免高温下的某些副反应发生，从而有效地提高产品的纯度。 原料纯化处理 原因:主要原料是各类反应气，惰性保护气体，载气。 气体中通常都含有微量的杂质氧和吸附水，这些杂质在合成反应进行前应予以除去，否则会混杂于产品中，或影响合成反应进行。 * 反应气进行预热处理 为了提高反应气体的利用率，从而提高反应收率。 从气体分子动理论方面分析，在混气前对各路