庄伟综目的地国家城义大利nsrrc.pdfVIP

國家同步輻射研究中心 出國報告書 出國人姓名：莊偉綜 出國日期：2016/05/21~2016/05/29 目的地 (國家、城市)：義大利，加爾尼亞諾 Gargnano 參加會議名稱地點： EUPOC 2016, 義大利 一、 目的 參加EUPOC 2016會議。 二、行程 21/05 台灣-義大利羅馬機場-義大利維羅納機場 22/05 義大利維羅納機場-義大利加爾尼亞諾 23-26/05 義大利加爾尼亞諾 27/05 義大利加爾尼亞諾-義大利威尼斯機場 28-29/05 義大利威尼斯機場-台灣 三、內容摘要： 此 Europolymer Conferences (EUPOCs) 會議歐洲高分子學會所主 辦，每年舉辦一次每次都有不同的主題，今年主題為嵌段共聚高分子 的應用，主題共有下列六項: (1) Synthesis of new block copolymers (2) Theory and simulation (3) Self assembly for lithographic applications (4) Directed self-assembly of block copolymers; (5) Metrology of block copolymers; (6) Advanced electronic, optoelectronic, photovoltaic and membrane applications. 本此會議共有將近 140 人參與，除歐洲國家外，還有來自台灣、日本、 韓國、中國、美國、加拿大等國之科學家參與該會議。本次會議共有 2 場 Key Note Lecture 、13 場 Invited Lecture ，52 場口頭發表，還有 兩場壁報發表。行程安排相當緊湊。但是本次會議地點選在一純樸的 小鎮，以鄉村緩慢的步調來調和緊湊的行程。 四、心得概述 此會議吸引許多各國高分子相關科學家參與，本次口頭報告依應 用方向不同分成了以下幾種組別:1. Direct self assembly of block copolymers 2. Block copolymer ordering dynamics 3. Block copolymer advanced processing 4. High X block copolymers and nanostructures 5. Crystalline block copolymers and nanostructures 6. Novel block copolymers 7. Advanced electronic, optoelectronic and photovoltaic applications 8. Block copolymer metrology and advanced characterization 9. Block copolymers for membrane applications 10. Block copolymer based nanostructures.。 本次大會專題演講的其中一場邀請韓國浦項大學 Kim, Jin Kon 教授 發表演說，Kim 主要從事嵌段共聚物自組織薄膜應用於半導體奈米蝕 刻，雖然目前嵌段共聚物自組織薄膜可製造出 10nm 尺度以下的圖案 提供光學蝕刻用，但會中他也詳述剖析嵌段共聚物自組織薄膜在半導 體應用的前景堪憂，必須有一套比現在更好的方法去除自組織缺陷與 增加圖像德可控制性，才能拉近產學間的距離。例外，來自美國康乃 爾大學 Wiesner 教授發表利用嵌段共聚物自組織結構作為金屬氧化 物模板材料，Wiesner 教授的研究圜隊其橫向連結能力非常強，近期 在 Science Advance 發表利用嵌段共聚物自組織 gyroid 結構作為模 板，將半導體材料轉植，相當具創意的作法。本人此次發表超分子嵌 段共聚物模板合成奈米孔洞二氧化鈦薄膜之研究，由於Wiesner 教授 是研究嵌段共聚物模板材料的先驅，本人特地邀請他來參觀與討論我 的壁報發表，他給予許多的讚賞與寶貴意見對未來投稿有相當的益處。 這次大會主辦 P. Muller-Buschbaum