ICP-MS仪器的操作及维护.pptxVIP

稳定同位素质谱仪（IRMS）;目录;ICP-MS的起源和发展; 电感耦合等离子体 质谱的高温离子源 样品蒸发、解离、原子化、电离等过程;测定对象：绝大多数金属元素和部分非金属元素 检测限：1?10-5(Pt) ~ 159(Cl) ng/mL 分析速度： 20 samples per hour 精度：RSD 5% 离子源稳定性：优良的长程稳定性 自动化程度：从进样到数据处理的全程自动化和远程控制 应用范围：地质、环境、冶金、生物、医药、核工业 ;Agilent 7500系列ICP-MS系统简图;样品引入系统;典型的雾化器;典型的雾化室 – 双通路斯科特型;ICP炬管箱;电感耦合等离子体的形成;ICP离子源原理图;样品通过离子源离子化，形成离子流，通过接口进入真空系统，在离子镜中，负离子、中性粒子以及光子被拦截，而正离子正常通过，达到聚焦效果。在分析器中，仪器通过改变分析器参数的设置，仅使我们感兴趣的核质比的元素离子顺利通过并且进入检测器，在检测器中对进入的离子个数进行计数，得到了最终的元素的含量。;ICP-MS在环境领域中的应用;ICP-MS在环境分析中的应用;质谱图及其干扰：;ICP-MS的干扰及消除方法;同质量类型离子干扰 同质量类型离子干扰是指两种不同元素有几乎相同质量的同位素。对使用四极质谱计的原子质谱仪来说，同质量类指的是质量相差小于一个原于质量单位的同位素。使用高分辨率仪器时质量差可以更小些。周期表中多数元素都有同质量类型重叠的一个、二个甚至三个同位素。 如：铟有113In+和115In+两个稳定的同位素 前者与113Cd+重叠，后者与115Sn+重叠。 因为同质量重叠可以从丰度表上精确预计．此干扰的校正可以用适当的计算机软件进行。现在许多仪器已能自动进行这种校正。; ; 氧化物和氢氧化物离子干扰; 仪器和试样制备所引起的干扰;环境污染与实验室工作条件 实验步骤的优化设计 试剂污染因素 购买适合测定要求的高纯试剂 分子离子的干扰因素 优化样品引入系统, 干扰校正方法, 屏蔽炬, 冷等离子体技术, 碰撞池或反应池 记忆效应 优化样品引入系统, 加长冲洗时间, 操作人员的素质 接口效应，基体效应 选择信号强度随着基体元素的基体???应、接口效应而与待测元素信号强度同时增强或降低的内标进行校正 随机背景 四极杆、离子透镜、真空系统等的优化组合设计 ;谢谢大家的聆听！