光刻机、刻蚀机、离子注入机解读.pptVIP

PART 3.1 离子注入机的概念 离子注入机是集成电路制造前工序中的关键设备，离子注入是对半导体表面附近区域进行掺杂的技术，其目的是改变半导体的载流子浓度和导电类型。 光刻机、刻蚀机、 离子注入机解读 集成电路设备产业链示意图 目 录 / contents 光刻机 刻蚀机 离子注入机 全球半导体设备制造商发展概况 PART 1 光刻机 PART 1.1 光刻机原理 在半导体基材上（硅片）表面匀胶，将掩模版上的图形转移光刻胶上，把器件或电路结构临时“复制”到硅片上。 PART 1.2 光刻机简介 PART 1.3 光刻机的分类及优劣势 接触光刻机 掩膜版与光刻胶接触 优势：设备价格便宜，分辨率适中，大于0.5微米，受限于光刻胶的厚度。 劣势：掩膜版受损，污染物直接成像在硅片上，硅片翘曲导致成像不均匀。 PART 1.3 光刻机的分类及优劣势 接近光刻机 掩膜版与光刻胶接近但不接触 优势：设备价格便宜，可以避免与光刻胶直接接触而引起的掩膜板损伤。 劣势：衍射效应限制图像转移精度，比接触式的方法分辨率低。 PART 1.3 光刻机的分类及优劣势 投影光刻机 分为步进重复和步进扫描两种，掩膜版图像以缩小倍率投影成像在硅片上。 优势：分辨率高，14纳米、掩膜版无损耗，污染物缩小在硅片上，影响小。 劣势：设备非常昂贵，系统及其复杂。 PART 1.3 光刻机的分类及优劣势 三束直写光刻机：激光直写、电子束直写、离子束直写光刻机 优势：无需制作昂贵的掩膜版，用于实验研究，灵活性高，分辨率高。 劣势：生产效率极低，无法用于规模化生产。 PART 1.3 光刻机的分类及优劣势 沉浸式光刻机 在传统的光刻技术中，其镜头与光刻胶之间的介质是空气，而所谓浸入式技术是将空气介质换成液体。实际上，浸入式技术利用光通过液体介质后光源波长缩短来提高分辨率，其缩短的倍率即为液体介质的折射率。 PART 2.3 能源供应丰裕 光刻机是所有集成电路生产设备中最关键、最昂贵的设备，占一条半导体生产线设备成本的近40%。 目前掩膜版光刻设备长期被美、日、欧等国少数几家设备制造商所掌握，垄断着这些设备在市场上的份额和应用。 PART 1.4 光刻机的发展及市场组成 PART 1.4 光刻机的发展及市场组成 PART 1.5 国内外光刻机生产企业 国际：荷兰阿斯麦（ASML）公司、日本尼康公司、日本Canon公司、美国ABM公司、德国SUSS公司、美国MYCRO公司。 国内：上海微电子装备有限公司（SMEE)、中国电子科技集团第四十八所、中国电子科技集团第四十五所。 PART 1.3 光刻机的分类及优劣势 荷兰阿斯麦（ASML）公司 总部位于荷兰的ASML公司是全球光刻设备市场的领导者，在全球15个国家设有60个办事处。高科技集成电路芯片制造商均使用ASML光刻设备。许多时尚电子产品，如iPhone、电视及导航仪等，均采用ASML设备生产的芯片。主要客户是Intel，Samsung，Hynix，TSMC等世界十大半导体厂商。 PART 1.5 国内外光刻机生产企业 PART 1.3 光刻机的分类及优劣势 荷兰阿斯麦（ASML）公司 目前市场上提供量产商用的光刻机厂商主要有三家：ASML, 尼康(Nikon)，佳能(Canon)。在中高端光刻机市场，ASML占据大约60%的市场份额。而最高端市场（如沉浸式光刻机、EUV光刻机），ASML大约目前占据80%的市场份额。 PART 1.5 国内外光刻机生产企业 PART 1.3 光刻机的分类及优劣势 上海微电子装备有限公司 上海微电子装备有限公司于2002年在上海成立，公司主要致力于大规模工业生产的投影光刻机研发、生产、销售与服务。该公司现已成为世界上继欧洲和日本3家光刻机公司之后，第4家掌握高端光刻机系统设计与系统集成测试技术的公司。公司产品可广泛应用于IC制造与先进封装、MEMS、3D-TSV、TFT-OLED等领域? PART 1.5 国内外光刻机生产企业 PART 2 刻蚀机 PART 2.1 刻蚀机的原理 所谓刻蚀，实际上狭义理解就是光刻腐蚀，先通过光刻将光刻胶进行光刻曝光处理，然后通过其它方式实现腐蚀处理掉所需除去的部分。随着微制造工艺的发展；广义上来讲，刻蚀成了通过溶液、反应离子或其它机械方式来剥离、去除材料的一种统称，成为微加工制造的一种普适叫法。 PART 2.2 刻蚀机的分类 湿法刻蚀机：把硅片浸泡在一定的化学试剂或试剂溶液中，使没有被抗蚀剂掩蔽的那一部分薄膜表面与试剂