光瞳滤波技术.pptVIP

λ=248nm；LW=0.18μm；σ=0.7；NA=0.55 μm Phase-shift filter 0 π/4 π/2 π CON 0.18μm等间隔线条最优滤波器及加滤波器前后像强对比 λ=193nm；LW=0.2μm；σ=0.6；NA=0.7 π 0 1 . 2 Amplitude filter Phase-shift filter 0.2μm点孔复合滤波器及加滤波器前后像强对比 μm μm 1 0.4 Contour map Contour map π 0 CON CON μm μm Phase-shift filter 0.35μm拐角相移滤波器及加滤波器前后像强对比 π 0 CON Contour map Contour map CON μm μm μm μm λ=365nm；LW=0.35μm；σ=0.7；NA=0.5 λ=248nm；σ=0.7；NA=0.65 焦深和线宽的关系 DOF μm LW μm 一、光刻技术的发展概况 二、光瞳滤波光刻技术原理 三、计算机模拟 四、相移滤波器的制作 五、光刻曝光实验 六、结束语 抗蚀剂 石英基片 显影后 刻蚀后 刻蚀石英基片制作相移滤波器 滤波器掩模 涂抗蚀剂，曝光 抗蚀剂 石英基片 涂抗蚀剂，曝光 显影后 激光直写制作抗蚀剂相移滤波器 采用数据 一、光刻技术的发展概况 二、光瞳滤波光刻技术原理 三、计算机模拟 四、相移滤波器的制作 五、光刻曝光实验 六、结束语 一 光瞳滤波投影光刻曝光实验系统照片 1 2 4 5 3 实 验 系 统 构 成 示 意 图 涂胶 实 验 工 艺 流 程 图 基片预处理 前烘 曝光 显影 清洗、吹干 观测 后烘 图形满意 是 否 用光瞳滤波技术提高 投影成像系统光刻分辨率研究 报告人： 康西巧 指导教师：陈旭南 研究员 2001/6/21 一、光刻技术的发展概况 二、光瞳滤波光刻技术原理 三、计算机模拟 四、相移滤波器的制作 五、光刻曝光实验 六、结束语 ? IC技术发展迅速 ? 遵循摩尔定则 ? 新产品性能、功能提高，价格降低 ? 推动计算机、信息、网络等技术的发展 得益于 微细加工技术尤其光学光刻的不断进步 光刻成像系统像质评价的几个重要指标 ? 分辨率 ? 焦 深 ? 对比度 wavefront 光学光刻及其发展 生产效率高、易实现高对准和套刻精度、掩模制作简单、工艺条件易掌握及良好的继承性---主流 其它非光学光刻技术 ? 极紫外光刻技术 ? X射线光刻技术 ? 电子束光刻技术 ?离子束投影光刻技术 传统方法 光瞳滤波技术现状1 光瞳滤波技术的发展 1991 Hirosh.Fukuda 等将光瞳滤波技术用于光刻系统 1993 T. Horiuchi 等振幅滤波结合环形照明，i线，NA 0.52，σ=0.6：DOF 0.8μm R 0.28μm Line 1998 Rosemarie Hild等，振幅滤波对周期图形的改善 1999 Chin C.Hsia 等, λ248，NA0.55，σ0.8： 0.15 Line 2000 Hoyoung Kang等， 250nm / 210—220nm hole 2 光瞳滤波技术的优越性 3 光瞳滤波技术的前景 主要研究内容 ? 理论分析光瞳滤波提高光刻分辨率的物理机理 ? 研究滤波器设计原理，提出设计理论，给出算 法，建立数学模型，进行模拟计算 ? 设计制作滤波器 ? 建立光刻系统，开展曝光实验，对比分析 一、光刻技术的发展概况 二、光瞳滤波光刻技术原理 三、计算机模拟 四、相移滤波器的制作 五、光刻曝光实验 六、结束语 Image plane Lens Object +2 -2 +1 -1 0 Coherent light Focal plane 阿 贝 成 像 原 理 空 间 滤 波 理 论 Y1 L1 P1 X1 L2 X2 Y2 L3 P3 Y3 X3 f f f f P2 S 光栅物体经滤波仅让零频通过的成像分析 0 a d t(x1) 0 T(x2/λf) 0 1 H(x2/λf) 0 T(x2/λf)H(x2/λf) g(x3) 0 a/d x2 x3 x2 x2 x1 Short wave