红荧烯薄膜生长及稳定性的研究-发光学报.pdfVIP

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2017-10-18 发布于天津
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红荧烯薄膜生长及稳定性的研究-发光学报

第３８卷　第８期发　光　学　报Ｖｏｌ３８Ｎｏ８２０１７年８月ＣＨＩＮＥＳＥＪＯＵＲＮＡＬＯＦＬＵＭＩＮＥＳＣＥＮＣＥＡｕｇ. ꎬ２０１７文章编号:１０００￣７０３２(２０１７)０８￣１０４７￣０９红荧烯薄膜生长及稳定性的研究１ꎬ２３１１１１∗ ２１∗ 张玉婷 ꎬ王　卓 ꎬ孙　洋 ꎬ闫　闯ꎬ尹　丽 ꎬ孙丽晶 ꎬ李占国ꎬ王丽娟 (１. 长春工业大学化学工程学院ꎬ吉林长春　１３００１２ꎻ ２. 长春理工大学光电工程学院ꎬ吉林长春　１３００２２ꎻ　３. 吉林省产品质量监督检验院ꎬ吉林长春　１３００００) 摘要:利用原子力显微镜研究了二氧化硅衬底上红荧烯薄膜的生长及稳定性ꎮ 在较低沉积速率下ꎬ较低衬底温度时ꎬ红荧烯分子有充足的扩散时间ꎬ利于薄膜的横向生长ꎬ形成连续性、均匀性较好的薄膜ꎮ 快速蒸镀及较高衬底温度使红荧烯薄膜转变为纵向生长模式ꎬ形成团粒状岛ꎮ 横向生长的红荧烯薄膜在退火和空气中表现为亚稳特性ꎬ随着退火温度的升高和空气中放置时间的延长ꎬ红荧烯分子会自发地进行质量传输ꎬ发生纵向转移ꎬ转变为团粒状岛ꎮ 获得了二氧化硅界面上红荧烯薄膜的生长及亚稳定机制模型ꎮ 研究结果证明红荧烯分子与二氧化硅界面之间的作用力小于红荧烯分子间的作用力ꎮ 关　键　词:红荧烯ꎻ沉积速率ꎻ衬底温度ꎻ退火ꎻ稳定性中图分类号:ＴＮ３２　　　文献标识码:Ａ　　　ＤＯＩ:１０.３７８８/ ｆｇｘ１０４７ＧｒｏｗｔｈａｎｄＳｔａｂｉｌｉｔｙＰｒｏｐｅｒｔｉｅｓｏｆＲｕｂｒｅｎｅＴｈｉｎＦｉｌｍｓ１ꎬ２３１ＺＨＡＮＧＹｕ￣ｔｉｎｇ ꎬＷＡＮＧＺｈｕｏ ꎬＳＵＮＹａｎｇ ꎬ １１１∗ ２１∗ ＹＡＮＣｈｕａｎｇ ꎬＹＩＮＬｉ ꎬＳＵＮＬｉ￣ｊｉｎｇ ꎬＬＩＺｈａｎ￣ｇｕｏ ꎬＷＡＮＧＬｉ￣ｊｕａｎ (１. ＳｃｈｏｏｌｏｆＣｈｅｍｉｃａｌＥｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇꎬＣｈａｎｇｃｈｕｎＵｎｉｖｅｒｓｉｔｙｏｆＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙꎬＣｈａｎｇｃｈｕｎ１３００１２ꎬＣｈｉｎａꎻ ２. ＳｃｈｏｏｌｏｆＥｌｅｃｔｒｏ￣ＯｐｔｉｃａｌＥｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇꎬＣｈａｎｇｃｈｕｎＵｎｉｖｅｒｓｉｔｙｏｆＳｃｉｅｎｃｅａｎｄＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙꎬＣｈａｎｇｃｈｕｎ１３００２２ꎬＣｈｉｎａꎻ ３. ＪｉｌｉｎＰｒｏｖｉｎｃｅＰｒｏｄｕｃｔＱｕａｌｉｔｙＳｕｐｅｒｖｉｓｉｏｎＴｅｓｔＩｎｓｔｉｔｕｔｅꎬＣｈａｎｇｃｈｕｎ１３００００ꎬＣｈｉｎａ) ∗ＣｏｒｒｅｓｐｏｎｄｉｎｇＡｕｔｈｏｒｓꎬＥ￣ｍａｉｌｑｑ.ｃｏｍꎻｗｌｊ１５＠１６３.ｃｏｍＡｂｓｔｒａｃｔ:Ｇｒｏｗｔｈａｎｄｓｔａｂｉｌｉｔｙｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓｏｆｒｕｂｒｅｎｅｔｈｉｎｆｉｌｍｓｏｎｓｉｌｉｃｏｎｄｉｏｘｉｄｅｓｕｂｓｔｒａｔｅｗｅｒｅｉｎｖｅｓ￣ｔｉｇａｔｅｄｂｙａｔｏｍｉｃｆｏｒｃｅｍｉｃｒｏｓｃｏｐｙ. Ａｔａｌｏｗｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎｒａｔｅａｎｄａｌｏｗｓｕｂｓｔｒａｔｅｔｅｍｐ