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氧化受损甘氨酸分子内质子迁移的机理-厦门大学学报自然科学版
第 卷 第 期 ( ) 55 2 厦门大学学报 自然科学版 Vol.55 No.2 年 月 ( ) 2016 3 JournalofXiamenUniversit NaturalScience Mar.2016 y : / doi10.6043 .issn.0438-0479.2016.02.004 j 氧化受损甘氨酸分子内质子迁移的机理 * , , , , 孟祥军 石 瑾 杨笑春 贾俊芳 杨 静 ( , ) 唐山师范学院化学系 河北 唐山 063000 ** 摘要: , , , 采用 和 方法 在 基组水平研究了氧化受损甘氨酸分子的构象异构化机理 探讨 M06B3LYP CCSD 6-31 G ++ , 了甘氨酸氧化受损后的性质变化和溶剂化效应 找到 个甘氨酸阳离子稳定构型和 个过渡态 发现甘氨酸阳离子构象 . 7 9 , / , / 异构化过程存在质子迁移反应 质子从羧基迁移到氨基的能垒为 从 迁移到羰基 的能垒为 15.2kJmol α-C O 138.6kJ ; / ; ( ), mol最稳定甘氨酸构象失去一个电子的垂直电离势为 878.0kJmolN5原子失电子最多 超过 0.4 其他各原子失去 ( ); 电荷不多 均低于 电荷变化导致迁移质子所在化学键显著被削弱 溶剂化效应能显著增高质子迁移反应能垒 0.1 . . 关键词: ; ; ; ; 氧化损伤 甘氨酸阳离子 质子迁移 反应机理 量子化学 中图分类号: 文献标志码: 文章编号: ( ) O641 A 0438-0479201602-0168-06 [ ]
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