用于电子工业的纳米图案化与光刻方法.pdfVIP

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2017-09-20 发布于北京
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用于电子工业的纳米图案化与光刻方法.pdf

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第 6 卷，第 1 期纳米图案化和光刻方法用于光刻/ 纳米图案化材料的六氟醇-官能化甲基丙烯酸酯单体喷墨印刷：促进印刷电子行业发展的关键技术用于高级微纳米制造工艺的导描绘未来电子工业电聚合物自组装单层的微纳米尺度光致图案化前言第 6 卷，第 1 期欢迎阅读 2011 年第一期Material Matters™ ，本期题为“纳米图案化和光刻方法”。本期将介绍用于形成纳米尺度的图案化材料特征的多种方法，这些特征对于电子器件的制成至关重要。用于亚 Aldrich Chemical Co., Inc. 言微米级制造的技术种类繁多，从起源于电子工业的复杂的、自上 Sigma-Aldrich Corporation 前 6000 N. Teutonia Ave. 而下的光刻方法，到最近发展起来的新方法，包括依赖于自组织 Milwaukee, WI 53209, USA 的自下而上的方法。对于纳米图案化，这两种类型均已提出了若干种具体的方法，并经过了充分地验证。 Kaushik Patel 博士材料科学下订单现在的绝大多数电子器件都是使用自上而下的光刻技术制造的， Sigma-Aldrich Corporation 电话 800-325-3010 （美国这种技术依赖于先进复杂的仪器和特制的材料。例如，典型的集传真 800-325-5052 （美国成电路由硅、砷化镓或锗等衬底上的各种图案化的金属、电介质和半导体薄膜构成。这类器件通常采用光刻技术制成，在光刻过程中使用称为抗蚀剂的辐射敏感聚合材料客户及技术服务在衬底中产生所需的电路图案。然而，人们仍在继续研究非光刻方法，这种方法能提客户咨询 800-325-3010 供技术上更简单、经济上更实效的纳米制造策略。本期就将介绍其中的一些方法，包括