去离子水设备主要技术参数与应用描述.docxVIP

　　去离子水设备主要技术参数及应用描述　　1、去离子了水设备阴阳离子交换　　去离子水设备技术简介　　去离子水设备离子交换是指水通过离子交换柱时，水中的阳离子和水中的阴离子(HCO-等离子)与交换柱中的阳树脂的H+离子和阴树脂的OH-离子进行交换，从而达到脱盐的目的。阳、阴混柱的不同组合可使水质达到更高的要求。是目前成熟的常规制取纯水、超纯水的装置。离子交换器分为阳离子交换器(软化器)、阴离子交换器、混合离子交换器等。　　缺点：树脂饱和后需要用酸、碱再生。　　2、去离子水设备混合离子交换器(混床)：　　混床是指阴、阳树脂装在同一设备内，水经过混匀的阴、阳树脂层进行除盐。混床可以看作是由许许多多阴、阳树脂交错排列而组成的多组式复床，其阴、阳离子交换几乎是同时进行的。经H型交换产生的H+和经型交换OH-产生的可以互相中，因此交换反应进行十分彻底，出水水质很好。用于阳阴交换器，反渗透除盐设备后，制取高纯水。离子交换树脂交换容量饱和，即需再生处理，在容器内把阳阴离子分层，进行酸碱再生，再生完毕后用压缩气体使阳阴离子重新混合。　　3、去离子水设备主要的技术参数　　1、工作压力：0.1MPa～0.6Mpa　　2、工作温度：5～40(特殊温度可以定做)　　3、单机流量：1T～100T　　4、操作方式：手动操作或自动控制　　5、产品规格：直径：φ250～φ2000　　高H：1600～4500(特殊要求可以定做)　　6、过滤速度：15　m/h～25m/h　　7、筒体材料：304、316L、A3碳钢及有机玻璃　　离子交换混床为深度脱盐设备，用于制造高纯水，产水电阻率最高为10-18MΩ·CM(25C)，二氧化硅含量(SIO2)≤0.02mg/L，混床分为单、双床、抛光床、双床可一用一备，(不影响生产用水的连续性);可串联使用，以提高产水水质，有效利用树脂的交换容量;当生产用水量大时，可并联使用，运行相当灵活、方便。出水电导率由高精度电阻率仪监控。环保型再生系统，高浓度酸碱通过射流器与进水按一定的比例配制成再生溶液进行再生，不需要酸碱泵及酸碱配制储罐，防止酸雾对环境的污染。　　4、去离子水设备用途：　　1、制药水质满足中国药典GMP标准　　2、电子行业广泛用于单晶硅半导体集成电路块，显像管制造系统　　3、化工原料配料用水；　　4、电镀行业冲洗用纯水；　　5、生物工程；　　6、电路板芯片冲洗用纯水。