Fenton氧化处理高浓度有机硅废水影响因素研究.PDFVIP

2009年第 6期 水科学 与工程技术 -21· Fenton氧化处理高浓度有机硅废水影响因素研究 李 娟 ，安 鹏 ，王云波 ，谭万春。 (1．亍可北省财政投资评审中心，石家庄 050001；2．河北省邮政公司，石家庄 050001；3长沙理工大学 水利工程学院，长沙 410114) 摘 要 ：采用Fenton氧化技术进行处理有机硅废水 的主要影 响因素 ，考察TpH值、[H202]：[Fe]、Fe投加量 、温度 、反应时间对COD去 除 效果 的影响。结果表 明随着反应温度的升高 ，COD去除率会增大，但温度过高又会降低 ；随着反应时间的延长 ，COD的去除效果先增大 ， 随后趋于稳定。在pH值为3，[H20zj：[Fe]=2：1时，COD去除效果最佳，调整出水HpH值沉淀后会提高去除效果。对=PCOD为9600mg／L的 高浓度有机硅废水在每200mL水样投~130％的HO 12mL，20％的硫酸亚铁36mL，调整出水pH值为7～8，沉淀后 ．COD去除率达88．6％。 关键词 ：高浓度 有机废 水；有机硅 ；Fenton氧化 ：C0D 中图分类号：TU991 文献标识码 ：B 文章编号：1672—9900(2009)06—0021—03 Studyon theaffectionofwasterwatercontainingorganicsilicon treatmentbyFentonreagent LIJuan，AN Peng0，WANG Yun—bo，rfAN Wan—ehun0 (1．CenterofHebeiFinuacialInvestmentandEvalucation，Shijiazhuang050001，China； 2．stCorporationofHebe vince，SMiiazhuang050001，China； 3．1nstituteofHydraulicEngineering，ChangshaUniversityofScienceandTechnology，Changsha410114，China) Abstract：TheaffectionofwasterwatercontainingorganicsilicontreatmentbyFentonreagentwasstudied，theimpactof pH，[H202]：[Fe ]，Fe“dosage，temperature，andreactiontimeareinvestigated；Theresultsshowedthatwiththe temperatureincreasing，COD removalwillincrease，butitwillreducewhen thetemperaturetoohigh；Fenton oxidation reactionsvery quicklyinresponsetothestartofphase．withthereactiontimeoftheextension．COD removaleffectwill increase，andthenachievethemaximum，maintainthebasicstability．pH3，[H2O2]：[Fe 2：1arethebestconditionsfor treatment， erreactionadjustpHto7～8，theCODremovalincreased．Per20OraLwatercontainof9600m LCOD，add 30％H2O212mL，20％offen_0ussulfate36mL，adjustpH 7~8，CODremovalratereached88．6％． Keywords：highdensityorganicwastewater；organicsilicon；Fentonoxidize；COD 高浓度有机废水 的处理一直是个难题 。某绝缘 电器厂的