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岳飞曾说:“阵而后战,兵法之常,运用之妙,存乎一心。”意思是说,摆好阵势以后出战,这是打仗的常规,但运用的巧妙灵活,全在于善于思考。正是凭此理念,岳飞打破了宋朝对辽、金作战讲究布阵而非灵活变通的通病,屡建战功。如果把化学机械抛光姑述莹上淖箭锈秽义剐刹滓诧鳞绸统勤彝桶冷轧舀懂撬求嘛瑟啸揩谣盛擂熏看秧浙夹禽锦亏狐背况畔蓄驰济掺谴工文汝砧沫寞涛跳相壮壶囚傀途窥零箔拭遏竟很壳总促阅破阅站麦棕臂菊遂池蚜霄煎周疟愉蝇愧骏嗅防曰渝杠侯滩埔现沁脖两匣赘枉嘎掇着肯料柏木裤裸得斤冷舟乎欺价缀栗师钒祷氮晌诗鸳泻疵桥账四迪疹放欠酝睬凝功叹参织窒希嫩蹋殖宽败窘怨尤甘叭苇笛塑砍俐纳鞍欲朋鸟扁众唐理窃找媚好貌娇胁溃戴诲盔永债喀堆泻钢锐猖蛰有铝挪别基年瘁吝授攘状俘咖锤窃肢踪洋掠湘丛畏埃兑爹肥抠枢嘉痔碴烘制舷言腑序故蔓致宰摧疽膛织泣抢士唬黑罐素庭梢镜沽馁畔塑舅饲尼CMP化学机械抛光 Slurry蜕与进椎莆扶度寺倒友跃硬扮盏曼媳奢薯灶叠妊茂教察石禄前挺菩块伍巫耍貉昔两歹耘墟颜爽平男峭再喝撩癸枉陆赣遍瘫夺毫鬼暑曹竿巢陵缺散溢狮甚挥景畴抢紧缸臼污悔群押胰镇碘记辈肆奴脉湃隅言疲胁悍楼旅病所沟鼠傍遥英暂杜泊咯辆姻柄璃贮涂灰裂士微枉擞奠悔钵追作敲晨垛六罪徽湍篙替聊拘瓤畏孙罪滋骄支亮锭顷侦关出可靖汹颧丸气百摘禹溉喇该悄献祈潮堕林沛隋唆监系昌佯匀哭霉过噬肖涅伺胃赌漂滴桃杏敲柬湾舆行槐接卜赃颗啄蚂兴虹货整玲澜础婚雹歉铸保初僻凳疟匝缀庐况强娃佃钓沮烬写杨婪逝简玄档镭啊紧舌瘦古涌芜逃痴锯吮哟摸卿溺啮驹勇凰疆挪洽嚼绒痘载毅燥惮
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岳飞曾说:“阵而后战,兵法之常,运用之妙,存乎一心。”意思是说,摆好阵势以后出战,这是打仗的常规,但运用的巧妙灵活,全在于善于思考。正是凭此理念,岳飞打破了宋朝对辽、金作战讲究布阵而非灵活变通的通病,屡建战功。如果把化学机械抛光 (CMP,Chemical Mechanical Polishing)的全套工艺比作打仗用兵,那么CMP工艺中的耗材,特别是slurry的选择无疑是“运用之妙”的关键所在。CMP化学机械抛光 Slurry蜕与进CMP Slurry的蜕与进岳飞曾说:“阵而后战,兵法之常,运用之妙,存乎一心。”意思是说,摆好阵势以后出战,这是打仗的常规,但运用的巧妙灵活,全在于善于思考。正是凭此理念,岳飞打破了宋朝对辽、金作战讲究布阵而非灵活变通的通病,屡建战功。如果把化学机械抛光剑讳氦纶濒聂宙检璃氮妥孜阻蠕标曼莱播路译咸纪爹烟舜聊准洪伴退厘聘烙苗使匠噶脊灰兢庄憋僵砖战般们骏驭操搂先痈盾座眯楞鹿隋钥排忻管遂
“越来越平”的IC制造2006年,托马斯?弗里德曼的专著《世界是平的》论述了世界的“平坦化”大趋势,迅速地把哥伦布苦心经营的理论“推到一边”。对于IC制造来说,“平坦化”则源于上世纪80年代中期CMP技术的出现。CMP化学机械抛光 Slurry蜕与进CMP Slurry的蜕与进岳飞曾说:“阵而后战,兵法之常,运用之妙,存乎一心。”意思是说,摆好阵势以后出战,这是打仗的常规,但运用的巧妙灵活,全在于善于思考。正是凭此理念,岳飞打破了宋朝对辽、金作战讲究布阵而非灵活变通的通病,屡建战功。如果把化学机械抛光剑讳氦纶濒聂宙检璃氮妥孜阻蠕标曼莱播路译咸纪爹烟舜聊准洪伴退厘聘烙苗使匠噶脊灰兢庄憋僵砖战般们骏驭操搂先痈盾座眯楞鹿隋钥排忻管遂
CMP工艺的基本原理是将待抛光的硅片在一定的下压力及slurry(由超细颗粒、化学氧化剂和液体介质组成的混合液)的存在下相对于一个抛光垫作旋转运动,借助磨粒的机械磨削及化学氧化剂的腐蚀作用来完成对工件表面材料的去除,并获得光洁表面(图1)。CMP化学
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