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透明导电zno:sn薄膜光学和电学性能的研究进展 recent advances of optical and electrical properties of transparent conductive zno:sn films

《半导体光 电~2012年 2月第 33卷第 1期 谌 夏 等: 透明导电ZnO:Sn薄膜光学和 电学性能的研究进展 透明导电ZnO:Sn薄膜光学和电学性能的研究进展 谌 夏 ,方 亮 ,吴 芳 ,阮海波 ,魏文猴 ,黄秋柳 (1.重庆理工大学 材料科学与工程学院。重庆 400054;2.重庆大学 应用物理系。重庆 401331) 摘 要 : 纯Zn0 电阻率高,电学性能不稳定,通过掺杂其他元素提高其光 电性能,制备 出高 质量的ZnO薄膜是实现其应用的关键。文章从制备方法、掺杂浓度和退火等方面综述了Sn掺杂 ZnO(ZnO:Sn)薄膜光电性能的研究进展,提出了降低 ZnO:Sn薄膜 电阻率和提高透光率的有效 途 径 。 关键词: 宽禁带半导体材料 ;ZnO :Sn薄膜 ;光学性质;电学性质 中图分类号 :0484.47 文献标识码 :A 文章编号:1001—5868(2012)01—0001--06 RecentAdvancesofOpticalandElectricalPropertiesofTransparentConductiveZno :SnFilms CHEN Xia ,FANG Liang。,WU Fang。,RUAN Haibo ,W EIWenhou。,HUANG Qiuliu (1.CollegeofMaterialSei.andEng.,ChongqingUniversityofTechnology,Chongqing,400054,CHN; 2.DepartmentofAppliedPhysics,ChongqingUniversity,Chongqing401331,CHN) Abstract: Pure ZnO film exhibits high resistivity, electricalproperties performance instability,thereby,how toenhanceitselectricalandopticalpropertiesbydopingisakeyforits application.In thepaper,therecentprogressofthestudiesonSn—dopedZnO (ZnO :Sn)thin filmsbased on the factorssuch astheprepreparation methods,doped concentration,growth conditionsandannealingtoaffecttheopto-electricalpropertiesofthefilmsaresummarized.The waystodecreasetheresistivityand enhancethetransmittanceofZnO :Sn thinfilm areput forward. Keywords: widebandgap semiconductive material;ZnO :Sn film ;opticalproperties; electricalproperties O 引言 法[10-11]、脉冲激光沉积 。引、喷涂热分解[14-15]、磁控 溅射[ 和蒸镀法[埔等 。 ZnO是具有六角纤锌矿结构 的直接宽带隙 Ⅱ一 由于纯 ZnO的电学性能不稳定 ,因此会选择掺 Ⅵ族化合物半导体,其室温禁带宽度达 3.37eV,激 杂一些别的元素来 改变它的性 能,如 Ⅲ族元素 子结合能高达 60meV,在可见光范 围内透光率高、 A1[引、Ga[ 、In[ 和Ⅳ族元素 Si[19和 Sn[。等。选 电阻率低 ,在紫外探测器、透 明电极、气敏传感器、表 择 Sn元素是因为它能提高 ZnO 的导 电性 。当Sn 面声波器件、光 电器件、太 阳电池等方面应用广 掺杂

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