利用导波耦合角度实时控制光刻胶光栅掩模的占宽比3.PDFVIP

第 26 卷 　第 5 期 光 　学 　学 　报 Vol . 26 ,No . 5 2006 年 5 月 　　　　　　　　　　　　　 　　　　　　　　 　　　　 May , 2006 A C TA O P T ICA SIN ICA 文章编号 :(2006) 0507676 利用导波耦合角度实时控制光刻胶光栅掩模的占宽比 林 　华 　李立峰 　曾理江 (清华大学精密仪器系 精密测试技术及仪器国家重点实验室 , 北京 100084) ( ) 摘要 : 　研究一种控制多层介质膜上的光刻胶光栅掩模 占宽比 线宽与周期之比 的新方法 。该方法基于下面的原 理 :如果某泄漏模在包层中的隐失尾较强 ,那么它的等效折射率受光刻胶光栅 占宽比变化的影响就大 ,从而可以利 用耦合角度来实时控制光栅占宽比。在光栅制作的显影阶段 ,采用实时监测技术 ,根据耦合角度和 占宽比之间的 关系预设入射光角度 ,在出现共振反常的时刻停止显影来控制 占宽比。实验结果表明 , 固定适当的入射角度可以 得到特定的占宽比;改变入射角度 , 占宽比按照预计的规律变化 , 因此定性地验证了这种 占宽比控制方法的可行 性 。文中给出了监控装置和具体的实验方法 ,并讨论了误差来源和影响 。 关键词 : 　物理光学 ; 光刻胶光栅 ; 光栅波导 ; 占宽比; 实时监控技术 中图分类号 : T H74 　　　文献标识码 : A Cont r olli n g t he Dut y Cycle of P h ot or esis t Gr at i n gs by Set t i n g t he Gui dedWave Coup li n g A n gles i n Monit or i n g of P h ot or esist Devel op ment L in Hua 　L i L if en g 　Zen g L ij ian g ( St a t e Key L abor a t or y of Pr ecisi on Meas u r e m en t Tech n ol ogy a n d I n st r u m e n t s , Dep a r t m e n t of Pr ecisi on I n st r u m e n t s , Tsi n gh u a U n i ver si t y , Beij i n g 100084) A bs t r a ct : 　A new t echni que f or cont r ollin g t he dut y cycle ( r atio of ri dge widt h t o p eriod) of p hot or esist gr atings made on t op of a multilayer dielect ric st ack is st udied . It is used in conj unction wit h t he r ealtime monit oring t echnique durin g p hot or esist develop ment , and based on t he p rincip le t hat t he eff ective r ef r active index of