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真空技术相关知识;真空技术;真空简介;真空发展历史;19世纪中后期，英国工业革命的成功，促进了生产力和科学实验发展，同时也推动了真空技术的发展。1850年和1865年，先后发明了汞柱真空泵和汞滴真空泵，从而研制成了白炽灯泡(1879)、阴极射线管(1879)、杜瓦瓶(1893)和压缩式真空计(1874)。压缩式真空计的应用首次使低压力的测量成为可能。 20世纪初，真空电子管出现，促使真空技术向高真空发展。1935～1937年发明了气镇真空泵、油扩散泵和冷阴极电离计。这些成果和1906年制成的皮拉尼真空计至今仍为大多数真空系统所常用。 1940年以后，真空应用扩大到核研究(回旋加速器和同位素分离等)、真空冶金、真空镀膜和冷冻干燥等方面，真空技术开始成为一个独立的学科。第二次世界大战期间，原子物理试验的需要和通信对高质量电真空器件的需要，又进一步促进了真空技术的发展。 ;应用领域;真空应用注意;真空的应用;中真空一般用于排除物料中吸留或溶解的气体或水分、制造灯泡、真空冶金和用作热绝缘。如真空浓缩生产炼乳，不需加热就能蒸发乳品中的水分。 真空冶金可以保护活性金属，使其在熔化、浇铸和烧结等过程中不致氧化，如活性难熔金属钨、钼、钽、铌、钛和锆等的真空熔炼；真空炼钢可以避免加入的一些少量元素在高温中烧掉和有害气体杂质等的渗入，可以提高钢的质量。 高真空可用于热绝缘、电绝缘和避免分子电子、离子碰撞的场合。高真空中分子自由程大于容器的线性尺寸，因此高真空可用于电子管、光电管、阴极射线管、X 射线管、加速器、质谱仪和电子显微镜等器件中，以避免分子、电子和离子之间的碰撞。这个特性还可应用于真空镀膜 ，以供光学、电学或镀制装饰品等方面使用。 ;外层空间的能量传输与超高真空中的能量传输相似，故超高真空可用作空间模拟。在超高真空条件下，单分子层形成的时间长(以小时计)，这就可以在一个表面尚未被气体污染前 ，利用这段充分长的时间来研究其表面特性，如摩擦、粘附和发射等。 ;真空热处理技术应用概况;进入80年代,真空热处理技术在我国得到了迅速发展,高压气淬工艺、真空渗碳技术、真空烧结、真空钎焊、真空离子渗碳技术的研究和应用相继展开,真空热处理技术开始从研究试验阶段跨入工业生产领域。90年代以来,相继出现了高压气淬、超高压气淬等新技术,真空清洗、真空渗氮、真空离子渗碳等技术也得到了蓬勃发展。下面介绍几种真空热处理工艺。 ;1.1真空退火;真空度、加热温度和出炉温度对光亮度均有影响,要获得满意的光亮度,必须正确选择适宜的真空度、退火温度和出炉温度。我们把抛光的标准试样的光亮度作为100%,以此为基准光亮度进行对比,在工业生产中一般认为光亮度达到下限(60%)即可,对某些碳素结构钢和合金结构钢而言(例如:50钢),当压力为10-2托,退火温度在700—800℃范围内,平均光亮度可达60%以上, 将真空度提高到10-3～10-4托,此时可达到70～80%光亮度。但对碳素工具钢及合金工具钢、不锈 钢而言,欲获得满意的光亮度,需提高真空度至10-3～10-4托。;实验证明： 真空退火时的出炉温度 是影响光亮度的一个重要因素,除抗氧化性能好的高合金钢(如不锈钢)外,真空退火出炉温度一般均应选在200℃以下。目前,真空退火可用于难熔金属、软磁合金、硅钢片、铁镍合金和铁硅合金、电工钢、不锈钢、结构钢等材料 ;1.2真空淬火;实验结论为: ;1.3真空渗碳;尽管如此,被???处理行业称为“划时代的新技术”的真空渗碳技术,国际和国内热处理行业一直在进行研究和生产上的改进。 真空渗碳后工件表面含碳量、渗碳层深度、单件的渗碳均匀性、料筐(有效区)内的均匀性等都是至关重要的,然而这些指标或参数都不能象气体渗碳那样用红外仪,氧探头来进行控制。;目前,法国ECM公司利用模拟和仿真技术开发了IN2FRACARB真空渗碳软件,计算机根据设定的最终表面碳浓度、目标渗碳深度,计算出执行渗碳工艺时需要的渗碳时间,扩散时间、就可以进行过程控制了,并且装备在连续式真空气体渗碳淬火炉上使用获得了良好的效果。在渗剂方面,经各种试验证实,用乙炔可完成优质真空渗碳。 ;目前,真空渗氮、真空清洗与干燥技术、真空钎焊技术等一些真空热处理技术也得到较好的研究和应用,并有着十分广阔的发展前景。 谢谢！