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氮掺杂氟化非晶碳薄膜的拉曼光谱结构研究 structural analysis of nitrogen doped fluorinated amorphous carbon thin films by raman spectroscopy

! 张云芳 氮掺杂氟化非晶碳薄膜的拉曼光谱结构研究: 绝缘材料 2006, 39( 4 ) 氮掺杂氟化非晶碳薄膜的拉曼光谱结构研究 张云芳 (江苏科技大学数理学院 江苏 镇江, 212003) 摘要:以 、 和 的混合气体为源气体,采用 技术,在不同源气体流量比下制备了 薄膜。对制备 CF CH N PECVD !-C:F:N 4 4 2 2 3 的薄膜进行了真空退火处理,并对退火前后的薄膜进行了拉曼结构分析。拉曼分析表明: 薄膜是由 和 混 !-C:F:N Sp Sp 2 合结构组成的非晶碳薄膜;随源气体流量比的增大,!-C:F:N 薄膜中 键的含量增加,交联结构加强,薄膜的热稳定性Sp 得到提高;对低流量比下沉积的薄膜,退火处理可以提高其热稳定性。 关键词:等离子体增强化学气相沉积;氮掺杂氟化非晶碳薄膜 拉曼光谱; 中图分类号: 文献标志码: 文章编号: TM212;T@127.12;T@124.3;O657.37 A 1009-9239(2006)04-0048-04 St r u ct u r al A n aly sis of N it r ogen Doped Flu or in at ed A m or ph ou s Car bon Th in Film s by R am an Spect r oscopy ZHANG Yun -f ang ( De artment o Mathematics and Ph sics, jian su Unioersit P f y g y o Science and Technolo , zhen ian 2l2 3, China) f gy j g Abstract : in th is a er , the !- C : F : N f ilms Was r e ar ed b the r f - PECVD method u sin CF , p p p p y g 4 CH 4 and N 2 as sou r ce gases in Var ied sou r ce gas f loW r a tio . the pr e

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