原子层沉积前驱体材料的研究进展-表面技术.PDF

第 卷 第 期 年 月 表面技术 暋 39 暋暋 4 暋暋2010 8 暋暋暋Vol.39暋No.4暋Au.2010 SURFACETECHNOLOGY g 暋暋暋77 崑 帇崑崑崑崑崑崑崑崑崑帇 崑 崑 · 崑 综述 专论 帇崑崑崑崑崑崑崑崑崑帇 原子层沉积前驱体材料的研究进展 , 12 1 1 , , 袁军平 李卫 郭文显 ( , ; , ) 1.暨南大学 理工学院 广州 510632 2.广州番禺职业技术学院 广州 511483 [ ] , 摘 要 介绍了原子层沉积技术的基本原理及其特点 从无机类材料和有机金属类材料两个方面综述了 暋暋 暋 暋 , 、 , 、 、 、 前驱体材料的研究进展状况 介绍了单一元素 卤化物等无机类前驱体材料的特点 以及烷基 环戊二烯基 醇盐 、 、 。 , 毬二酮 烷基胺 硅胺基和酰胺等有机金属类前驱体材料的特点 结合原子层沉积过程的工艺特点和膜层要求 , 、 、 、 、 强调了在选择前驱体材料时 需要综合考虑材料的蒸汽压 反应性 化学稳定性 反应产物的活性 材料的安全性 及来源等方面的因素。 [ ] ; ; 关键词 原子层沉积 前驱体 材料 暋 [中图分类号] [文献标识码] [文章编号] ( ) 174.2 暋 暋 暋 A 暋 暋 暋 1001灢3660201004灢0077灢06 TheResearchProressofPrecursorsforAtomicLaerDeosition g y p , 12 1 1 , , YUANJun灢in LIWei GUOWen灢xian p g ( , , , ; 1.ColleeofScienceTechnolo JinanUniversit Guanzhou510632 China g gy y g , , ) 2.G