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在氧化气氛下硅中的磷扩散
在氧化气氛下硅 中的磷扩散 、 等 要 时 于 在硅 平 面 技 术 中通 常采用 的掺杂浓度 , 磷在硅 中的扩 敬是 既 在 不 活 波 气氛 氮 气 又 在载化 气氛 肠 氮 气加 肠氧、 干 衷、 水 。 落汽 中, 在 宽的 温 度 范 围 , 分 两 步 完成 的 很 内 , 实 脸数据 是根据 。和 理 论模 型来解释 的 这个模 型 考虑 了 在 移 动 着 的二 化 硅 硅 面 处 的再 分 步 , 说 明 的扩 系 受 氧 界 现 象 磷 散 数 。 — 完成扩 散 的环境 气氛 性 质 的强 烈影 响 还 发现 了扩 散 过程 中的两 种 不 , 同动 能 位 时于 不 活 泼 气氛 , 二 电子 伏 甘 于羲化 气氛 二 电子 伏 , 逞些 值 似乎证 明 了甘 不
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