可以防止KCl 滴落在法兰盘上,影响绝缘性.PPT

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可以防止KCl 滴落在法兰盘上,影响绝缘性

磁偏转小型质谱仪实验及其中需要注意的问题若干 栾强 06300190069 质谱仪的基本组成 当磁场 B 和加速电压 V固定 若 B,R 固定 因此改变加速电压 V,可以在接受缝上 观察到不同质荷比的粒子。这种方法即为动态分析法 动态分析法 分辨率 云母片的作用不只是绝缘,而且在涂敷 KCl 样品时,可以防止 KCl 滴落在法兰盘上,影响绝缘性。 灯丝和聚焦电极应与主缝精确地处于同一中心线上。这样可提高离 子的引出效率。 失败率高,实验中需要注意的细节问题 钼带 若钼带过宽,电阻将变小,电流变大,可能超出电流表的量程。 若钼带过窄,则在加热发射原子的过程中,将很容易被烧断。 法兰盘上4个接线柱挨得近,装聚焦电极和样品架时可能会相互碰到,在加电流 后就会短路 源材料 KCl 源的大小约为 2mm*1mm*0.5mm,不能过大或过小 如果结晶过大过厚,因为结晶过程是风干,并不形成完整的晶块,粘结不牢,安装,加热过程中都很容易造成脱落。 如果结晶过小,则在加热过程中,源材料将很快耗尽,测得结果将大部分是杂质信号,准确性降低。 浆状的 KCl 一定不可以滴落在底盘上,否则将绝缘性将遭到严重 破坏。 制备样品后,必须再次检验绝缘性。 装法兰盘前,需先在“O”形橡皮圈上均匀涂上薄薄的一层真空脂,这是为了减 少橡皮圈不平整造成的漏气。 动态真空系统中有漏孔的容器将按漏气速率和真空泵功率在内外形 成动态平衡。 本实验采用动态真空系统,对于动态真空系统来说,只要真空系统的平衡压力能 达到所要求的真空度,这时即使存在着漏孔,也可认为系统是不漏的。 本实验要求达到 10E-3Pa 的精度,密封性保证能达到此精度即可。 加热钼带,使钼带预热 30 分钟左右,有信号出现。信号出现后注意适当降低钼 带电流至合适值以节约 KCl 源材料。之后的 30 分钟内,测得信号从小变大,而 后再次变小,第二次信号变小是 KCl 源材料不足导致的,这时测量结果会受杂质 影响,所以应掌握测量时间。 本实验中,我们使用位于恒隆物理楼 333房间的磁式小质谱仪,以 KCl 为源材料 进行测量,得到了相当精确的结果。本文中,我们将重点放在实验中可能遇到的 情况上, 提示、 探讨并解释了实验中的诸多问题, 强调样品制备、 抽真空的细节, 以使实验结果更加准确。

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