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Cu掺杂ZnO薄膜的制备及其光谱特性
40 5 人 工 晶 体 学 报
第 卷 第 期 Vol. 40 No. 5
2011 10 JOURNAL OF SYNTHETIC CRYSTALS October ,2011
年 月
Cu 掺杂ZnO 薄膜的制备及其光谱特性
, , , ,
邱春霞 阮永丰 张灵翠 刘雅丽 王 帅
( , 300072)
天津大学理学院 天津
: - (ITO) Cu ∶ ZnO 。 X
摘要 采用溶胶 凝胶法在铟锡氧化物 导电玻璃基底上制备了不同掺杂浓度的 薄膜 采用 射线衍
, 。
射仪和扫描电子显微镜分析了薄膜样品的晶相结构和形貌 用荧光光谱仪测量了薄膜样品的光致发光谱 结果表
:Cu∶ ZnO , c ,
明 薄膜均为六角纤锌矿结构 呈 轴择优取向 且因压应力的存在使其晶格常数略小于未掺杂薄膜样品
; (PL) 4 14 nm 、438 nm
的晶格常数 低温和高温退火处理的薄膜样品的光致发光谱 中分别观察到 的蓝光双发射峰和
510 nm 。 V Zn , V -Zn 。
左右的绿光发射峰 蓝光发射峰与样品中的 和 有关 而绿光发射峰与样品中的 有关
Zn i O i
: - ;Zn Cu O ; ;
关键词 溶胶 凝胶法 1-x x 薄膜 光致发光谱 缺陷能级
中图分类号:O484 文献标识码:A 文章编号:1000-985X (2011)05-1130-06
Preparation and Spectral Characteristics of Cu Doped ZnO Thin Films
QI U Chun-xia ,R UAN Yong -f eng ,ZHANG Ling -cui ,LI U Ya-li ,WANG Shuai
(School of Science of Tianjin University ,Tianjin 300072 ,China)
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