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Cu掺杂ZnO薄膜的制备及其光谱特性

40 5 人 工 晶 体 学 报 第 卷 第 期 Vol. 40 No. 5 2011 10 JOURNAL OF SYNTHETIC CRYSTALS October ,2011 年 月 Cu 掺杂ZnO 薄膜的制备及其光谱特性 , , , , 邱春霞 阮永丰 张灵翠 刘雅丽 王 帅 ( , 300072) 天津大学理学院 天津 : - (ITO) Cu ∶ ZnO 。 X 摘要 采用溶胶 凝胶法在铟锡氧化物 导电玻璃基底上制备了不同掺杂浓度的 薄膜 采用 射线衍 , 。 射仪和扫描电子显微镜分析了薄膜样品的晶相结构和形貌 用荧光光谱仪测量了薄膜样品的光致发光谱 结果表 :Cu∶ ZnO , c , 明 薄膜均为六角纤锌矿结构 呈 轴择优取向 且因压应力的存在使其晶格常数略小于未掺杂薄膜样品 ; (PL) 4 14 nm 、438 nm 的晶格常数 低温和高温退火处理的薄膜样品的光致发光谱 中分别观察到 的蓝光双发射峰和 510 nm 。 V Zn , V -Zn 。 左右的绿光发射峰 蓝光发射峰与样品中的 和 有关 而绿光发射峰与样品中的 有关 Zn i O i : - ;Zn Cu O ; ; 关键词 溶胶 凝胶法 1-x x 薄膜 光致发光谱 缺陷能级 中图分类号:O484 文献标识码:A 文章编号:1000-985X (2011)05-1130-06 Preparation and Spectral Characteristics of Cu Doped ZnO Thin Films QI U Chun-xia ,R UAN Yong -f eng ,ZHANG Ling -cui ,LI U Ya-li ,WANG Shuai (School of Science of Tianjin University ,Tianjin 300072 ,China)

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