静电卡盘与晶圆之间稀薄气体传热的影响因素 - d1spartancom.pdfVIP

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清华大学学报自然科学版年第卷第期卜静电卡盘与晶圆之问稀薄气体传热的影响因素孙钰淳程嘉路益嘉侯悦民季林红清华大学机械工程系摩擦学国家重点实验室北京摘要通过在晶圆背面填充稀薄气体的方式来对晶圆进静电卡盘是等离子体刻蚀腔室中的核心部件之行冷却或加热是等离子体刻蚀工艺中的一项关键技术该一它利用静电电极产生的静电力来吸附晶圆由文对晶圆与静电卡盘之间的稀薄气体传热问题进行了解析于晶圆周围的腔室环境是近乎于真空的因此晶建模给出了一个适用于整个气压范围的气体导热解析表圆很难向周围环境散热静电卡盘还起到调节晶圆达

ISSN 1000-0054 清华大学学报 (自然科学版) 2015年 第 55卷 第 7期 9/18 — — CN 1卜2223/N JTsinghuaUniv(Sci Techno1),2015,Vo1.55,No.7 756—76O 静电卡盘与晶圆之问稀薄气体传热的影响因素 孙钰淳, 程 嘉 , 路益嘉, 侯悦民, 季林红 (清华大学 机

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