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半导体器件金铝键合的寿命研究 - 微电子学
第 卷第 期 微 电 子 学 ,
45 6 Vol.45 No.6
年 月
2015 12 Microelectronics Dec.2015
췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍
半导体器件金铝键合的寿命研究
, , , , ,
王路璐 李 洵 高 博 王立新 罗家俊 韩郑生
( , )
中国科学院 微电子研究所 北京 100029
: ,
摘 要 金铝键合失效是 器件常见的失效模式之一 主要是由于金属间化合物的生
MOSFET
, , , 。 ,
成 影响了金铝键合的接触电性能 从而导致键合强度下降 接触电阻升高 针对这种失效模式 进
, ,
行了三种不同高温条件下的加速寿命试验 并对这三种试验的器件进行金铝键合现象观察 对目前
工艺水平下的金铝键合寿命进行了评估。
: ; ; ;
关键词 金铝键合 可靠性 加速试验 寿命预测
中图分类号: ; 文献标识码: 文章编号: ( )
TN406TN305.93 A 1004-3365201506-0800-04
Stud ontheLifetimeofGold-AluminumBondin inSemiconductorDevices
y g
, , , , ,
WANGLulu LIXun GAOBo WANGLixin LUOJiaun HANZhenshen
j g g
( , , , )
Instituteo Microelectronics ChineseAcadem o Sciences Beiin 100029 P.R.China
f y f j g
Abstract:
The oldaluminumbondfailureisoneofthemostfailuremodesforMOSFETdevices.Thefailure
g -
( )
modeismainlcausedb theAuAlintermetalliccom ounds IMC rowth.TheIMC rowthmakesthebondin
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