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氟化铈晶体抗辐照机理的探讨-发光学报
18 4 Vol . 18 , No . 4 199712 CHINESEJOU RNALOFLUM INESCENCE Dec. , 1997 氟化铈晶体抗辐照机理的探讨* 胡关钦 冯锡淇 徐 力 殷之文 ( , 201800) 3 CeO2 CeAc3 Ce d X , X . CeF Ce , 3 CeF . 3 , X , 1 引 言 , ( 30 ns) , 3 [ 1] ( 6 g/c ) , . , [2] 60 7 . - 3, 110 , 3 Co CeF rad CeF 5%. , CeF3. CeF3Ce CeF3 . 2 实验和结果 3 3, , 10- 3 , N CeF Pa 3 202 , 2 35 Bridg an CeF CeO CeAc N . X MK XPS , K - 5 X ( 1.487 keV) , 10 Pa , . 1 3 . 1 Ce d XPS X . 1CeO , CeAc CeF Ce 3d X 2 3 3 1 3 , . Table Para eters of Ce d electron XPS of CeO2 CeAc3 and CeF3 A1 B1 C1 3d5/2 3d3/ 2 3d5/ 2 3d3/2 3d5/2 3d3/ 2 CeO2 898. 3 917.0 889.5 907. 8 883.2 901.7 CeAc3 887. 8 906. 3 CeF3 902. 8 912.5 886. 8 913.5 883.6 904.9 3 讨 论 . [3] 3 4 X
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