NPGS-纳米图形发生系统.PDFVIP

Phychemi Company Limited 理化有限公司 NPGS-纳米图形发生系统 （基于SEM 改装的电子束曝光系统 ） NPGS 简介 电子束曝光系统是利用计算机控制电子束成像电镜及偏转系统，聚焦形成高能电 子束流，轰击照射涂有高分辨率和高灵敏度化学抗蚀剂的晶片直接描画或投影复印图 形的技术。它的特点是分辨率高、图形产生和修改容易、制作周期短。 由于SEM、STEM 及 FIB 的工作方式与电子束曝光机十分相近，美国 JC Nabity Lithography Systems 公司成功研发了基于改造商品 SEM、STEM 或 FIB 的电子束曝光 装置 （Nanometer Pattern Generation System 纳米图形发生系统，简称 NPGS ）。NPGS 为电子束直写光刻图形发生系统，改造现有 SEM 等，外加电子束控制系统，将会聚的 电子束斑逐点地在样品台上移动，直接辐照电子抗蚀剂上或刻蚀基片形成图形。相对 于购买昂贵的专用电子束曝光机，以既有的SEM 等为基础，可大幅节省造价，且具有 原 SEM 的观测功能，在功能与价格方面均有优势。 由于具有高分辨率及低成本等特点，在北美研究机构中，NPGS 是最畅销的与扫 描电镜配套的电子束曝光系统，并且它的应用在世界各地也越来越广泛。NPGS 的技 术目标是提供一个功能强大的多样化简易操作系统，结合市面上已有的扫描电镜、扫 描透射电镜或聚焦离子束装置，实现高级的电子束或离子束光刻技术。当前众多用户 的一致肯定和推荐足以证明NPGS 实现了自己的目标，满足了用户对纳米级光刻加工 技术的需求。 应用简述 NPGS 电镜改装系统所具有的超高分辨率，无需投影光学系统和费时的掩模制备 过程，计算机产生图形并控制电子束直接将图形扫描到光刻胶上的特点，使它在纳米 加工方面有着巨大的优势。NPGS 系统能够制备出具有高深宽比的微细结构纳米线条， 从而为微电子领域如掩模板制造、微电子器件制造、全息图形制作、电子束诱导表面 沉淀等微/纳加工相关技术提供了新的方法。 NPGS 系统刻画图案的大小从纳米级到显微镜能达到的最大尺度，即最大可到 10 毫米。然而，对任何 SEM 电子束曝光系统，刻画精度将随着图案大小的增加而降低。 北京办事处：电话：010 邮箱：phychemi@ 主要特点： 为满足纳米级电子束曝光要求，JC Nabity 出品的NPGS 系统设计了一个纳米图形 发生器和数模转换电路，并采用电脑控制。电脑通过图形发生器和数模转换电路驱动 SEM 等仪器的扫描线圈，从而使电子束偏转并控制束闸的开关。通过 NPGS 可以对标 准样片进行图像采集及扫描场的校正。配合精密定位的工件台，还可以实现曝光场的 拼接和套刻。利用配套软件也可以新建或导入多种通用格式的曝光图形。 系统参数： 最细线宽 （μm ）：根据 SEM 最小束斑 （μm ）：根据 SEM 扫描场：可调 加速电压：根据 SEM，一般为 0-40kV 速度：5MHz （可选 6MHz ） A. 硬件： 微影控制介面卡：NPGS PCI-516A High Speed Lithography Board，16 Bit，high resolution (0.25%) 控制电脑：Pentium IV 3.0 GHz computer (or better) with 512 Mb RAM, 80G 硬盘, CDRW Drive ，17液晶显示器. 皮可安培计：Keithley 6485 Picoammeter B. 软件： 微影控制软件 NPGS V9.0 DesignCAD Express v16.2 或更高版本 理化有限公司 北京办事处： 地址：北京朝阳区北苑路 172 号万兴苑南园 2 号楼 电话：010 邮箱：phychemi@