电子束真空辐射固化技术基础研究.pdfVIP

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3 3 2004 9 MICROFABRICATIO TECH OLOGY Sep,2004 :2004) , , , ( , 250061) :提出了电子束真空辐射固化技术新概念, 并对该技术的固化机理等进行了阐 述通过对液 低聚物辐射固化条件和SDS- II 型曝光机的加速电压曝光剂量等 曝光参数的分析研究, 得出SDS- II 型曝光机可以用于液 低聚物辐射固化的结 2 论在此基础上使用SDS- II 型曝光机在20 kV 的加速电压2 C/ cm 的曝光剂量 下, 对经真空挥发处理过的三羟甲基丙烷三丙烯酸酯( TMPTA) 液 低聚物进行了 曝光试验,得到了固化结构基本上证明了电子束真空辐射固化液 低聚物的可行 性, 为微机电三维微结构的加工提供了一种新方法 :;; ; :T 3057 :A 1 [4- 5] , (electron beam EB) , () , , 20 60 , 60 1- 2] ,30 , [ 1, 3] 20 70 ,20 90 10 2 , 1998 : : ( ; ( Y2003G03) : ( 1966- ) , , , ,, 3 : 11 (EB) , (oligomer) EB ( ) , () , : , , , , ,: , [6] , 015 MeV~ 10 MeV , ( prepolymer) , , , ( )

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