退火处理对玻璃表面沉积的ZnO薄膜微观形貌与-IngentaConnect.PDFVIP

See discussions, stats, and author profiles for this publication at: /publication/263483020 Effect of Annealing on Microstructure and Properties of ZnO Thin Films Deposited on Glass Surface Article in Kuei Suan en Hsueh Pao/ ournal of the Chinese Ceramic Society · une 2013 DOI: 10.7521/j.issn.0454–5648.2013.06.17 CITATIONS READS 0 47 6 authors, including: ingxiao Liu Dalian Polytechnic University 38 PUBLICATIONS 513 CITATIONS SEE PROFILE All content following this page was uploaded by ingxiao Liu on 27 December 2014. The user has requested enhancement of the downloaded file. All in-text references underlined in blue are added to the original document and are linked to publications on ResearchGate, letting you access and read them immediately. · 820 · 硅 酸 盐 学 报 2013 年 第41 卷第6 期 硅 酸 盐 学 报 Vol. 41 ，No. 6 2 0 1 3 年 6 月 JOURNAL OF THE CHINESE CERAMIC SOCIETY J u n e ，2 0 1 3 DOI ：10.7521/j.issn.0454–5648.2013.06.17 退火处理对玻璃表面沉积的ZnO 薄膜微观形貌与性能的影响 阮鑫栋，姜妍彦，杜兴科，刘贵山，胡志强，刘敬肖 (大连工业大学纺织与材料工程学院，辽宁 大连 116034) 摘 要：以Zn(NO ) ·6H O 为前驱体，采用超声喷雾热解法在500 ℃下、在钠钙硅浮法玻璃衬底上制备了ZnO 薄膜。分别在不同温度(500、550、600 3 2 2 ℃)和不同时间(30、60、120min)对制备的ZnO 薄膜进行了退火处理。研究退火条件对ZnO 薄膜微观结构、形貌以及光学性能的影响。结果表明：退 火处理能提高ZnO 薄膜的c 轴取向；随着退火时间的延长，ZnO 薄膜附着强度随之增加，但c 轴取向度呈先增强，至120min 时又开始呈下降的趋势； 随着退火温度的升高，ZnO 薄膜的 c 轴取向亦出现先显著增强，之后又开始下降的趋势，同时可见光透过率亦呈相同的变化趋势。最佳退火条件为 500 ℃温度保温60 min ，此时薄膜不仅c 轴取向生长优势明显，结晶质量良好，表面颗粒大小均匀，致密平滑，同时薄膜的可见光透过率由退火前的