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数字集成电路第章 CMOS静态逻辑电路

CMOS传输门传输高电平特性 CMOS传输门在传输高电平时,NMOS管始终工作在饱和区,而PMOS管是在恒定的栅源电压下,先工作在饱和区,然后进入线性区。 尽管第三个阶段时NMOS截止,但传输高电平还没有结束,PMOS还导通,可以继续对负载充电,此时PMOS管工作在线性区,直到|VDSP|=Vin-Vout=0时,传输才结束。 可以无损耗传输高电平。 CMOS传输门传输低电平特性 CMOS传输门在传输低电平时,PMOS管始终工作在饱和区,而NMOS管是在恒定的栅源电压下,先工作在饱和区,然后进入线性区。 尽管第三个阶段时PMOS截止,NMOS仍然线性区导通,直到|VDSN|=Vin-Vout=0时,即Vout=0时传输才结束。 可以无损耗传输低电平。 CMOS传输门导通电流的变化 传输高电平和传输低电平过程中,NMOS传输管、PMOS传输管以及CMOS传输门导通电流的变化。 NMOS管和PMOS管的电流都是非线性变化,而CMOS传输门的总电流近似线性变化。 (三)CMOS传输门 2.CMOS传输门的直流传输特性 (1)当 时,N管、P管均截止, (2)当 时, 由“0”升高到“1”的过程分为以下 三个阶段: ① 较小 ,N管导通区: N管导通 P管截止 N管接近理想开关,N管沟道电流向负载电容充电,使 ② 升高,双管导通区: N管导通 P管导通 N管、P管共同向负载电容充电,仍使 ③再升高,接近“1”时,有P管导通区: N管截止 P管导通 P管接近理想开关,P管继续向负载电容充电,仍维持 (四)CMOS传输门的设计 为保证导电沟道与衬底的隔离(PN结反偏),N管的衬 底必须接地,P管的衬底必须接电源。 沟道电流与管子的宽长比(W/L)成正比,为使传 输速度快,要求 大些,沟道长度L取决于硅栅多晶硅 条的宽度,视工艺而定,一般L取工艺最小宽度( ), 那么,要使 大,就要将沟道宽度W设计的大一些。 CMOS传输门导通电阻的变化 传输门总结 ★ NMOS传输管传输低电平性能好,传输高电平有阈值损失; ★ PMOS传输管传输高电平性能好,传输低电平有阈值损失; ★ CMOS传输门利用NMOS和PMOS管的互补性能获得了比单个传输管更优越的性能,性能更接近理想开关。 静态CMOS逻辑门的构成特点 静态CMOS逻辑门是在CMOS反相器的基础上扩展而成的。 把反相器中单个的PMOS管用多个PMOS管构成的上拉网络代替; 把反相器中单个的NMOS管用多个NMOS管构成的下拉网络代替。 这样可以实现任意的与或非逻辑(AOI),也可以实现任意的或与非逻辑(OAI) 对NMOS下拉网络的构成规律: NMOS管串联实现与操作; NMOS管并联实现或操作。 对PMOS上拉网络的构成规律: PMOS管串联实现或操作; PMOS管并联实现与操作。 ★ 电路最终输出还要对上述操作求反,最终实现带非的逻辑功能。 ★ 上述规律不仅适用于单个管子的串、并联,还可以推广到子电路块的串并联。 静态CMOS逻辑门的构成特点 复杂逻辑门的分析和设计 Example 与或非( AOI )门的设计 或与非门(OAI)的设计 实现不带“非”的逻辑 实现任意的组合逻辑电路 Y=ABCDEFGH 三种方案的比较 逻辑门的延迟时间与它的扇入系数和扇出系数有关: ★ 扇出系数使负载电容增大,对延迟时间是线性关系; ★ 扇入系数的增大一方面是等效导电因子下降,驱动能力减小,也使得串联的MOS管数目增加,对串联支路中间节点电容的充放电将增加延迟时间。 因此,扇入系数对延迟时间的影响更大。 总结: 电路的总延迟时间不完全

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