数字掩模灰度细分技术研究 - 激光与红外.PDFVIP

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数字掩模灰度细分技术研究 - 激光与红外

第41卷  第5期                 激 光 与 红 外 Vol.41,No.5   2011年5月                 LASER & INFRARED May,2011   文章编号:10015078(2011)05056904 ·光电技术与系统· 数字掩模灰度细分技术研究 陈劲松 (安徽财经大学电子信息工程系,安徽 蚌埠233000) 摘 要:数字掩模技术是一种很有发展前途的衍射微光学元件制作技术。实际制作时,由于感 光材料具有感光非线性,实际可利用的灰度数目将小于256。即使256级灰度全部可用,也无 法实现曝光量的精细控制以达到一般的加工要求。文中提出了2种灰度细分的方法,即多 SLM组合调制和彩色等效灰度技术。从理论上分析了2种方法均能实现灰度的细分,从而达 到曝光量的精细控制。 关键词:数字掩模;空间光调制器;灰度细分 中图分类号:TN249   文献标识码:A Researchongraysubdivisiontechnologyofdigitalmask CHENJinsong (ElectronicInformationEngineeringDepartmentofAnhuiUniversityofFinance&Economics,Bengbu,233041,China) Abstract:Digitalmasktechnologyisamethodwithgoodprospectthatmanufacturediffractiveopticalelement.While diffractiveopticalelementismade,thenumberofgraylevelthatcanbeusedwillbelessthan256duetosensitive nonlinearityofphotosensitivematerial.Evenif256graygradescanbeusedentirely,finecontrolthatobtainsgeneral processingdemandwillnotberealized.Inthepaper,twomethodsofgraysubdivisionandexpansionareputforward. TheyareassembledmodulationbymanySLMsandcolorequivalentgraytechnology.Itisanalyzedtheoreticallythat twomethodsbothcanrealizegraysubdivision,whichcanresultinelaboratecontroloflightexposure. Keywords:digitalmask;spatiallightmodulator;graysubdivision 1 引 言 过程中没有真实存在的灰度掩模板,所以又称为虚 衍射微光学元件(diffractionopticalelement, 拟掩模技术。 DOE)使得光学器件微型化、阵列化和集成化成为可 制作衍射微光元件的感光材料大部分具有感光 能。目前,国内外对DOE的制作技术研究相对滞后 非线性,实际所能够利用的灰度(即线性区)等级远 于设计理论,限制了DOE的发展和应用。总结起 小于256。即使256灰度等级全部可用,也无法满 来,DOE制作技术主要有:二元光学技术、直写技术 足一般的制作误差要求。为了能精确地控制曝光 [1] 和灰度掩模技术 。其

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