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H2O2—H2SO4系黄铜化学抛光的研究.pdf
维普资讯 1996年 6月 电 镀 与 豫 饰 第 15卷第2期 1I ● ● ● L ● ● ● ● H202--H2SO4系黄铜化学抛光的研究 f 一 ． 蛀盔．垩 (南京大学化学化工学院 邮码：210093) 方景礼 (南京大学应用化学研究所 邮码：210093) ． - ／ — — — — ～ fr；j Study ofChemicalPolishing forBrassin H202——H：SO4Solution HAN Kepino FANG Jingli 采用扫 喊 光反射率法桃 化 方 观测 了黄铜在 H q 系化 学抛 光过程 中的表面彤貌、表面光亮度．电位时间曲线、电流时间曲线。结果表明，黄铜 的 化学抛光包括浸蚀、光亮和过腐 蚀三个阶段，同时对黄铜化学抛 光机理也进行 了探 讨 。关键词：黄铜 化学抛光 机理 记 匕 氟 ’- 一 ‘ ～ Abstract：Chemicalpolishingofbrasswasstudied in H 2一HzSO,based solution th~ou曲 SEM examination ofsurfaec morphology observation of reflectivity and determ ination of potientialCUI~S．Experimentalresultsshow thatthe polishing process includes the stepsof etching，brightening and 0 r—etching Themechanism are also discussed Keywards：brass．chemiaclpolishing，mechanism 日用 品、医疗设备等产品构件的抛光处理 1前言 但是 目前还没有公认的化学抛光理论 ，对化 金属制品化学抛光与机械抛光、电化学 学抛光过程及机理 的研究也不多． 抛光相 比，优点在于它不需要直流 电源 和接 1963年Takashi川曾指 出电化学抛光的 触夹具 ，因此可以抛光形状复杂和尺寸 各异 理论也适用于化学抛光 一部分研究者坚持 的制品，并且生产效率高，金属的化学抛光至
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