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透明导电膜光学性质
透明導電膜光學性質 金屬氧化物薄膜在紫外光區有高的吸收率,在可見光區(380~760nm) 有高穿透率,而在紅外光區(2~100μm) (optical selectivity),[15,16],如圖2-3所示。 在紫外光區時因(λg>λ)為高吸收且低穿透,所以當入射光的能量大於能隙時,會將價帶上的電子激發到導帶上,而造成吸收,所以可透光的短波長是以半導體材料的能隙決定,則稱為能隙波長(λg)。 可見光區因(λg>λ>λp)為具有高穿透且低反射,所以藉由摻雜雜質來增加載子濃度,使自由載子吸收較於電漿頻率較低的光,所以當載子濃度提高會影響薄膜其透明性。 紅外光區因(λ>λp )為具有高反射且低穿透,所以金屬氧化物和金屬內的自由載子是以電漿狀態的形式存在,故會產生所謂的電漿振動,而形成電漿振動與入射光互相作用,所以當入射光的頻率小於電漿頻率時,則入射光會被反射,而金屬的電漿頻率對應的波長於紫外光區,故金屬氧化物的電漿頻率則為紅外光區。 圖2-3 透明導電膜的光穿透、反射與吸收光譜的示意圖[17]
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