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冷氢化综述

冷氢化技术综述 (上) ???? 朱骏业? 岳菡? 张永良???? ???? 20世纪70年代美国喷气推进实验室(JPL)在美国能源部的支持下组织研究新硅烷法工艺过程中,采用多晶硅工厂的副产物四氯化硅(STC)作原料,将其转化为三氯氢硅(TCS),然后将三氯氢硅通过歧化反应生产硅烷。 ???? 80年代初,为得到低成本、高纯度的多晶硅,又进行了一系列的研究开发。其中高压低温氢化工艺(以下简称冷氢化)就是一项能耗最低、成本最小的STC转化为TCS的工艺技术。该工艺被UCC(Union Carbide Corporation)公司在80年代中后期进一步的完善,实现了从实验装置到工业化运行的跨越,目前REC在华盛顿州的多晶硅工厂所采用的此项工艺仍在运行中。因此,毋庸置疑,冷氢化技术的原创应当是UCC,目前流行的各类流化床冷氢化工艺只是在UCC的基础上“整容,而非变性”(易中天语)! ???? 90年代,为了提高多晶硅产品纯度,满足电子工业对多晶硅质量的要求,开发了高温低压STC氢化工艺,这两种工艺的比较如下: 项目名称 高温低压热氢化 低温高压冷氢化 操作压力:Bar 6 15~35 操作温度:℃ 1250 500~550 主要反应 SiCl4+H2=SiHCl3+HCl Si+3HCl=SiHCl3+H2 3SiCl4+Si+2H2=4SiHCl3 优点 汽相反应;不需催化剂;连续运行;装置单一、占地少;易操作和控制,维修量小;氢化反应不加硅粉,无硼磷及金属杂质带入,后续的精镏提纯工艺较简单,提纯工作量小; STC转化率一般为(17%~24%) 流化床反应;三氯氢硅合成与四氯化硅氢化可在同一装置内进行,可节省投资;反应温度低、电耗低,单耗指标为≤1kWh/kg-TCS; STC转化率为20%以上; 缺点 反应温度高、电耗高,单耗指标为≤2.2~3kWh/kg-TCS; 加热片为易耗材料,运行费用较高,有碳污染的可能性。 ? 气固反应,操作压力较高,对设备的密封要求很高,维修工作量大;操作系统较复杂,;氢化反应加入硅粉,有硼磷及金属杂质带入,提纯工作量大,增加精馏提纯费用(如蒸汽、电力、冷却水等消耗);需硅粉干燥及输送系统; 需加入催化剂。 ????综上比较,二者各有优缺点,但低温高压冷氢化工艺耗电量低,在节能减排、降低成本方面具有一定的优势。国内多晶硅新建及改、扩建单位可以根据项目的具体情况、自身的优势及喜好,择优选定。 ??? 冷氢化主要反应式如下: Si+ 2H2 + 3SiCl4???催化剂?? 4SiHCl3 ?(主反应) SiCl4+Si+2H2? = 2SiH2Cl2 (副反应) 2SiHCl3? = SiCl4+SiH2Cl2 (副反应) ????典型的冷氢化装置组成如下: ? ???? 一个完整的冷氢化系统大致包括以下6大部分: ???? 1、技术经济指标:包括,1)金属硅、催化剂、补充氢气、STC、电力的消耗,2)产品质量指标,3)STC转化率,4)公用工程(氮气、冷却水、冷媒、蒸汽及导热油); ???? 2、主装置:包括,1)流化床反应器、2)急冷淋洗器,3)淋洗残液的处理系统,4)气提,5)加热及换热装置; ???? 3、原料系统:包括,1)硅粉输送,2)催化剂选用及制备,3)原料气体的加热装置; ???? 4、粗分离系统:包括,1)脱轻,2)脱重,3)TCS分离; ???? 5、热能回收系统,包括:1)流化床出口氢化气的热量回收,2)急冷塔出口淋洗气的热能回收,氯硅烷物流热量综合利用;热能回收系统,包括:1)流化床出口氢化气的热量回收,2)急冷塔出口淋洗气的热能回收; ???? 6、物料处置及回收系统:包括,1)淋洗残液中的氯硅烷回收,2)脱重塔残液中的氯硅烷回收,3)轻组分中的氯硅烷回收,4)固废处理,5)氯硅烷废液处理。 冷氢化技术综述(上)的表格显示不完整,重发一遍: ? 项目名称 高温低压热氢化 低温高压冷氢化 操作压力:Bar 6 15~35 操作温度:℃ 1250 500~550 主要反应 SiCl4+H2=SiHCl3+HCl Si+3HCl=SiHCl3+H2 3SiCl4+Si+2H2=4SiHCl3 优点 汽相反应;不需催化剂;连续运行;装置单一、占地少;易操作和控制,维修量小;氢化反应不加硅粉,无硼磷及金属杂质带入,后续的精镏提纯工艺较简单,提纯工作量小; STC转化率一般为(17%~24%) 流化床反应;三氯氢硅合成与四氯化硅氢化可在同一装置内进行,可节省投资;反应温度低、电耗低,单耗指标为≤1kWh/kg-TCS; STC转化率为20%以上; 缺点 反应温度高、电耗高,单耗指标为≤2.2~3kWh/kg-TCS; 加热片为易耗材料,运行费用较高,有碳污染的可

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